DB11/T 132-2004 保护地无公害西瓜栽培技术综合标准

ICS65.020.20

B31

备案号：15520-2004

DB

北京市地方标准

DB11/T132—2004

代替DB11/T132-2001

保护地无公害西瓜生产技术规程

NO-pollutedtechnologicalstandardsforcultivatingWatermelon

2004-06-15发布2004-09-01实施

北京市技术监督局发布

DB11/T132—2004

目次

前言.................................................................................II

1范围................................................................................1

2规范性引用文件......................................................................1

3术语和定义..........................................................................1

4嫁接西瓜苗的培育....................................................................3

5自根西瓜苗的培育....................................................................6

6温室大棚西瓜生产....................................................................6

7西瓜的采收..........................................................................8

8病虫害防治..........................................................................8

附录A（资料性附录）西瓜病害及其防治.................................................10

附录B（资料性附录）西瓜虫害及其防治.................................................13

附录C（规范性附录）无公害西瓜生产上禁用的农药.......................................15

附录D（资料性附录）西瓜主要品种的特征特性...........................................15

I

DB11/T132—2004

前言

本标准代替DB11/T132-2001《保护地西瓜栽培技术综合标准》。

本标准附录A、附录B、附录D为资料性附录，附录C为规范性附录。

本标准由大兴区技术监督局提出并归口。

本标准起草单位：北京市大兴区农业科学技术研究所、北京市大兴区技术监督局。

本标准主要起草人：刘国栋、芦金生、路志学、刘彦全、白树川、马孝生。

II

DB11/T132—2004

保护地无公害西瓜生产技术规程

1范围

本标准规定了保护地无公害西瓜生产的基础条件、品种、育苗、生产管理、采收以及病虫害防治的

要求。

本标准适用于北京地区保护地（温室、大棚、中棚）春播无公害西瓜的栽培。

2规范性引用文件

下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的

修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究

是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。

GB4285农药安全使用标准

GB4455农业用聚乙烯吹塑薄膜

GB/T8321（所有部分）农药合理使用准则

GB13735聚乙烯农用地面覆盖薄膜

NY5110公害食品西瓜产地环境条件

3术语和定义

本标准采用下列术语和定义

3.1

种子纯度

用于生产的西瓜种子的纯合性及其产生西瓜秧苗及果实的整齐一致性，用供试种子的秧苗及果实符

合品种特征的比率表示。

种子纯度（％）＝(供检种子粒数－异品种种子粒数)/供检种子粒数×100％

3.2

发芽率

种子发芽终期（7d）正常发芽种子粒数占供试样品的百分率。发芽率高，表明有生命的种子多。

种子发芽率（％）＝全部发芽种子粒数/供试验的种子粒数×100％

3.3

早熟品种

在30d内，从雌花开放到果实成熟（需积温700℃～800℃左右）的品种，为早熟品种。

3.4

中熟品种

在31d～35d从雌花开放到果实成熟（需积温800℃～900℃左右）的品种，为中熟品种。

3.5

晚熟品种

在36d以上从雌花开放到果实成熟（积温在900℃～1000℃）的品种，为晚熟品种。

3.6

小型西瓜

积小、单瓜重较轻的西瓜品种，一般单瓜重量小于或等于3kg的品种称为小型西瓜。

1

DB11/T132—2004

3.7

自根苗

利用西瓜种子直接培育的瓜苗称为自根苗。

3.8

嫁接苗

利用嫁接方法换根培育出的瓜苗称为嫁接苗。

3.9

嫁接

将西瓜的一部分器官接到砧木的适当部位，使两者愈合成一个新的共生体的过程称之为嫁接。

3.10

接穗

嫁接时位于上部被嫁接且不具有根系的植物器官称为接穗。

3.11

砧木

嫁接时位于下部承受接穗并具有根系的植物称为砧木。

3.12

栽培密度

每666.7m2定植的西瓜株数。

3.13

有效积温

西瓜生长期间，保护地设施内部环境大于15℃的日平均温度之和。

3.14

定植水

在定植时逐穴少量浇水，使土坨和土壤结合在一起。

3.15

伸蔓水

在西瓜团棵后，为促进瓜蔓伸长浇的水。

3.16

膨瓜水

在瓜座齐后，为促进幼瓜迅速膨大而浇的水。

3.17

整枝

人工保留或去除瓜蔓的过程。

3.18

授粉

花粉经外力落到雌花柱头的过程。

3.19

翻瓜

在果实膨大期间，通过翻转西瓜果实角度，使果实受光均匀，色泽一致的管理。

3.20

垫瓜

座瓜后，在果实下垫上隔热湿物的管理。

3.21

安全间隔期

2

DB11/T132—2004

最后一次施药至西瓜收获时允许的间隔天数。[NY/T5111-2002，定义3.1]

4嫁接西瓜苗的培育

4.1砧木苗床建立

4.1.1苗床建在保温、透光条件良好的温室内，并应具备以下条件：

a)白天温度随出苗后苗龄不同可随时调整；

b)夜间温度不低于15℃；

c)棚膜透光良好，无破洞，夜间加盖草苫或保温被。

4.1.2营养土的配制

4.1.2.1土质比较肥沃的砂壤土。

4.1.2.2草炭或腐熟的优质有机肥（不含鸡粪）。

4.1.2.3土与草炭比例为3︰1，土与有机肥比例为5︰1。

4.1.3苗床地面

平整地面，铺设地热线，每平方米需地热线10m，地热线上覆土1cm～1.5cm。

4.1.4营养钵码放要求

4.1.3.1温室北侧留0.5m～1.0m人行道。

4.1.3.2温室南侧留0.5m空间带，作为倒苗区。

4.1.3.3每隔2m做一道高出营养钵10cm的田埂，便于管理。

4.1.3.4将营养土装入直径8cm～10cm的营养钵中，并紧密码放在畦面上。

4.2砧木准备

4.2.1种子选择

4.2.1.1砧木种子采用西瓜嫁接专用葫芦科植物种子。

4.2.1.2种子纯度要求90%以上、种仁饱满、无植物检疫对象、有合格包装且是正规种子生产单位生

产的种子。

4.2.1.3种子发芽率85%以上，发芽势80%以上。

4.2.2种子处理

4.2.2.1晒种

播前选晴天，把种子拿到户外晒2d～3d。

4.2.2.2选种

去掉瘪小、破损、虫蛀、发霉的种子，选留饱满无病籽种。

4.2.2.3浸种催芽

用30℃～35℃温水浸种24h～48h，浸种后搓洗去掉种壳表面上的粘液，洗净控干水分，用浸湿的

纱布包好，在28℃～32℃环境下保湿催芽。

4.2.3砧木播种

4.2.3.1播种时期

日光温室12月上旬～1月中旬，大棚1月中旬～2月下旬，中棚1月底～2月下旬。

4.2.3.2播种准备

播前一天浇透水。

4.2.3.3播种要求

选择胚根长0.5cm饱满正常的种子播种，播种时种子平放，胚根朝下，每个营养钵播一粒种子；

播后覆细砂土1.5cm～2cm，覆土后盖地膜。

4.3砧木苗期管理

4.3.1出苗

一般播后5d～6d出苗，出苗达到70%时，揭去地膜。

3

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4.3.2温度控制

4.3.2.1播种至出苗温度控制在30℃～35℃；

4.3.2.270%出苗至真叶展开时白天应降温至20℃～25℃，夜间15℃～18℃，防止出现高脚苗；

4.3.2.3真叶生长期间白天温度控制在25℃～28℃，夜间温度控制在18℃～20℃。

4.3.3水分调控

保持土壤下层潮湿，表土干燥，育苗期内不出现缺水症状时尽可能不浇水，防止出现徒长苗。

4.3.4光照与通风

采取措施尽量增加光照，适当通风换气。

4.3.5倒苗

在育苗期通过移动营养钵倒苗，切断扎出营养钵的根系，促发新根，使秧苗整齐一致，有利于培育

壮苗，有利于定植后缓苗。

4.4接穗准备

4.4.1种子选择

4.4.1.1种子采用经种子管理部门审定后的，适合保护地种植的西瓜品种，参见附录D。

4.4.1.2种子发芽率90％以上，纯度95％以上，净度99％，含水量低于8％（无籽瓜种子发芽率85

％以上）。

4.4.2种子处理

4.4.2.1选种

去掉瘪小、破损、虫蛀、发霉的种子，选留饱满无病籽种。

4.4.2.2晒种

播前选晴天，将种子在户外晒2d～3d。

4.4.2.3药剂浸种

可用50％多菌灵可湿性粉剂1000倍液，浸种2h。

4.4.2.4浸种催芽

普通西瓜用50℃～55℃温水浸种5h～6h，无籽西瓜用55℃～60℃温水浸种1.5h～2h，浸种后搓洗

去掉种壳表面的粘液。洗净控干水分，用湿纱布包好，普通西瓜在25℃～30℃环境中保湿催芽，无籽

西瓜嗑籽后在32℃～35℃环境中保湿催芽。

4.4.3苗床准备

4.4.3.1在温室栽培畦内铺设地热线。

4.4.3.2将干净无菌无杂质的蛭石与草炭以1︰1的比例混合，

4.4.3.3在栽培畦或育苗盘内铺8cm～10cm厚。

4.4.4播种

4.4.4.1播期

采用顶插接和芯长接，一般应在砧木播种后第7d进行播种，靠插接法接穗提前4d～6d播种；

4.4.4.2选种

选择催芽后胚根长0.4cm～0.5cm的饱满种子进行播种；

4.4.4.3播种要求

每平方米播种2500粒～3000粒，播后覆土1cm～1.2cm，并盖膜保温，地膜应符合GB13735的规

定。

4.4.5接穗的苗期管理

播种后覆盖地膜，以保持水分。4d～5d后出苗时揭去地膜，地膜应符合GB13735的规定。

4.4.5.1

4.4.5.2白天温度控制

4.4.5.2.1播种至出苗控制在30℃～35℃。

4

DB11/T132—2004

4.4.5.2.2揭膜后温度控制在25℃～30℃。

4.4.5.3夜间温度控制在15℃～20℃。

4.4.5.4苗床基质相对含水量控制在70%～80%。

4.5嫁接

4.5.1嫁接方法

4.5.1.1顶插接法

用刀片削除砧木生长点，然后用粗度与接穗下胚轴相近的削成楔形的竹签在砧木刀口上斜面向下插

深约1cm的孔，将剪成楔形的接穗插入砧木孔中，一株嫁接苗即接成。需注意接穗子叶方向应与砧木子

叶呈十字状，以利于砧木子叶的光合作用，砧木苗以一叶一心为宜，接穗苗以子叶充分展开为宜。这种

嫁接方式砧木应提前7d播种；

4.5.1.2靠插接法

在砧木下胚轴靠近子叶节1cm处，用刀片作45°角向下削一刀，深过胚轴的一半左右，长约1cm。

然后在接穗的相应部位向上作45°角斜削一刀，深及胚轴的一半多，长度与砧木一致，将二者切口相

互嵌入，用嫁接夹固定，将接穗根系埋入土壤中。这种嫁接方式接穗提前4d～6d播种。

4.5.2嫁接技术要求

4.5.2.1时期确定

一般顶插接在砧木长出一片真叶，接穗子叶展开时进行。

4.5.2.2嫁接要求

嫁接时接穗削面要光滑平整，砧木与接穗要紧密接触。

4.5.2.3嫁接方法

靠插接在接穗成活后要及时去掉固定夹。

4.6嫁接苗的苗期管理

4.6.1湿度控制

4.6.1.1嫁接后及时扣上2m拱棚，并加盖草苫，保湿避光。

4.6.1.2嫁接后2d～3d内不通风，湿度保持在饱和状态。

4.6.1.33d～4d后逐渐通风换气。

4.6.2温度控制

4.6.2.1嫁接初期2d～3d，白天26℃～28℃，夜间24℃～25℃。

4.6.2.24d～5d后开始逐渐通风降温，1周后白天23℃～24℃，夜间18℃～20℃。

4.6.2.3接穗成活后按一般苗床管理。

4.6.3光照的控制

4.6.3.1嫁接当日和次日严密遮光、避免阳光直射。

4.6.3.2第3d起，早晨和傍晚除去覆盖物，以散射光各照射30min～40min，以后逐渐延长光照时间。

4.6.3.3一周后只在中午遮光，10d后按一般苗床管理。

4.6.4其它管理

4.6.4.1摘除不定芽：嫁接苗成活后要及时摘掉砧木上长出的侧芽。

4.6.4.2倒苗：同4.3.5。

4.6.4.3低温锻炼：定植前一周开始逐渐通风降温，保持白天22℃～24℃，夜间13℃～15℃。

4.7嫁接苗的质量指标

4.7.1嫁接苗出床时应具有3片～4片真叶，接穗不徒长。

4.7.2叶片颜色浓绿，无病、虫危害。

4.7.3茎基部粗壮。

4.7.4根系发达。

5

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5自根西瓜苗的培育

5.1苗床准备

同4.1。

5.2种子

同4.4.1。

5.3播种

同4.2.3。

5.4苗期管理

同4.3。

5.5自根苗的质量指标

5.5.1自根苗出床时具有3片～4片真叶。

5.5.2叶片颜色浓绿，无病虫危害。

5.5.3茎基部粗壮。

6温室大棚西瓜生产

6.1温室大棚建址的选择

6.1.1产地环境

温室大棚的建址的环境条件应符合NY5110的要求。

6.1.2土壤条件

6.1.2.1土壤以砂壤为宜。

6.1.2.2有机质1.0%以上。

6.1.3排灌条件

6.1.3.1排水系统

每排温室或大棚两侧应挖设上口宽1.5m，下口宽1m，深1m的排沟，地势较低的地头要有宽2m的

主排沟。

6.1.3.2供水系统

供水系统应为地下管道，每个温室或大棚留1个～2个出水口，有条件的铺设滴灌系统。

6.1.4气候条件

避风向阳。

6.2定植前的准备

6.2.1整地

冬前进行深翻、晾晒。

6.2.2扣棚膜

定植前15d～20d扣棚膜，以利提高地温，棚膜应符合GB4455的规定。

6.2.3开沟施肥

6.2.3.1单行种植

沟宽0.4m，沟深0.3m。

6.2.3.2双行种植

沟宽0.8m，沟深0.3m。

6.2.4沟施底肥

666.7m2施底肥量：

a)充分腐熟的有机肥2000kg～3000kg；

b)磷酸二铵20kg～25kg；

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c)硫铵30kg～35kg；

d)硫酸钾15kg～20kg。

6.2.5做畦

6.2.5.1单行种植：畦宽0.6m，畦高0.2m。

6.2.5.2双行种植：畦宽0.7m，畦高0.25m。

6.2.6加盖地膜

做畦后及时加盖地膜，保温保湿，地膜应符合GB13735的规定。

6.3定植

6.3.1定植时期

一般定植期为1月中旬～2月下旬，当瓜苗长到3片～5片真叶时，大棚2月底～3月底，中棚3

月下旬～4月上旬，地温稳定在