GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
GB/T 30701-2014 Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
国家标准
中文简体
现行
页数：20页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 30701-2014
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2014-06-09
实施日期
2014-12-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
适用范围
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。
发布历史
-
2014年06月
研制信息
- 起草单位：
- 中国计量科学研究院
- 起草人：
- 王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星
- 出版信息：
- 页数：20页 | 字数：31 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS71.040.40
G04
中华人民共和国国家标准
/—/:
GBT307012014ISO173312004
表表面化学分析硅片工作标准样品表面
元素的化学收集方法和全反射射线
X
荧光光谱法()测定
TXRF
—
SurfacechemicalanalsisChemicalmethodsforthecollectionofelements
y
fromthesurfaceofsilicon-waferworkinreferencematerialsandtheir
g
()
determinationbtotal-reflectionX-rafluorescenceTXRFsectrosco
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(:,)
ISO173312004IDT
2014-06-09发布2014-12-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—/:
GBT307012014ISO173312004
目次
前言…………………………Ⅲ
引言…………………………Ⅳ
1范围………………………1
2规范性引用文件…………………………1
3术语和定义………………1
4缩略语……………………2
5试剂………………………2
6仪器设备…………………5
7试样制备及其测量环境…………………5
8校准试样的制备…………………………6
9绘制校准曲线……………7
/……………………
10工作标准样品上铁和或镍的收集8
/……………
11工作标准样品上所收集铁和或镍的测定9
12精密度……………………9
13测试报告…………………9
()
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