GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

ICS71.040.40

G04

中华人民共和国国家标准

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GBT307012014ISO173312004

表表面化学分析硅片工作标准样品表面

元素的化学收集方法和全反射射线

X

荧光光谱法()测定

TXRF

—

SurfacechemicalanalsisChemicalmethodsforthecollectionofelements

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fromthesurfaceofsilicon-waferworkinreferencematerialsandtheir

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determinationbtotal-reflectionX-rafluorescenceTXRFsectrosco

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(:,)

ISO173312004IDT

2014-06-09发布2014-12-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

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GBT307012014ISO173312004

目次

前言…………………………Ⅲ

引言…………………………Ⅳ

1范围………………………1

2规范性引用文件…………………………1

3术语和定义………………1

4缩略语……………………2

5试剂………………………2

6仪器设备…………………5

7试样制备及其测量环境…………………5

8校准试样的制备…………………………6

9绘制校准曲线……………7

/……………………

10工作标准样品上铁和或镍的收集8

/……………

11工作标准样品上所收集铁和或镍的测定9

12精密度……………………9

13测试报告…………………9

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