T/EJCCCSE 534-2025 先进制程关键器件层刻蚀及表面处理超低损伤技术标准
T/EJCCCSE 534-2025 Advanced process key component layer etching and surface treatment ultra low damage technology standard
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/EJCCCSE 534-2025
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2025-08-21
实施日期
2025-09-20
发布单位/组织
-
归口单位
中国商业股份制企业经济联合会
适用范围
本文件规定了先进制程关键器件层刻蚀及表面处理超低损伤技术的术语和定义、不同类型层刻蚀损伤要求、表面处理损伤要求、检验方法及超低损伤控制。 本文件适用于半导体制造、微电子器件加工过程中使用化学、物理方法选择性去除器件特定材料层（3nm节点）的质量控制
发布历史
-
2025年08月
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研制信息
- 起草单位：
- 上海邦芯半导体科技有限公司、上海理工大学、上海谙邦半导体设备有限公司
- 起草人：
- 王兆祥、梁洁、詹其文、涂乐义、王士京、胡海峰、彭国发、方文强、雷欣瑞、王晓雯、李可、刘远远、陆赟、吴可学、陈国梁
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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