GB/T 20175-2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
GB/T 20175-2006 Surface chemical analysis—Sputter depth profiling—Optimization using layered system as reference materials
国家标准
中文简体
现行
页数:18页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
GB/T 20175-2006
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2006-03-27
实施日期
2006-11-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微束标准化技术委员会
适用范围
为使俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱的仪器设定达到深度分辨的优化目的,本标准采用适当的单层和多层膜系参考物质,提供优化溅射深度剖析参数的指南。
特殊多层膜系(如各种掺杂层膜系)的使用不包括在本标准内。
发布历史
-
2006年03月
-
2025年06月
研制信息
- 起草单位:
- 清华大学电子工程系
- 起草人:
- 查良镇、陈旭、王光普、黄雁华、黄天斌、刘林、葛欣、桂东
- 出版信息:
- 页数:18页 | 字数:30 千字 | 开本: 大16开
内容描述
暂无内容
定制服务
推荐标准
- SH/T 1611-2004 丙烯腈-丁二烯橡胶(NBR) 评价方法 2004-04-09
- GB 50838-2015 城市综合管廊工程技术规范(附条文说明) 2015-05-22
- JB/T 4710-2005 钢制塔式容器 2005-07-26
- SY/T 5158-2008 石油勘探数控测井系统技术条件 2008-06-16
- SJ 20303-1993 半导体集成电路 JFOP07(07A、27A、37A)、JF714型低失调运算放大器详细规范 1993-05-11
- SJ 21395-2018 多层共烧陶瓷生瓷片腔体成型工艺技术要求 2018-01-18
- GA 303-2001 软质阻燃聚氨酯泡沫塑料 2001-07-23
- SJ 21333-2018 陶瓷外壳及金属外壳钎焊工艺技术要求 2018-01-18
- HG/T 22801-2013 化工矿山企业初步设计内容和深度的规定 2013-10-17
- SJ 20292-1993 半导体集成电路 JT54LS151(153、157、158、251、253、257)型LS-TTL数据选择器详细规范 1993-05-11