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T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱

T/CSTM 01199-2024 Multi-layer metal thin film layer structure measurement and analysis method X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)

团体标准 中文(简体) 现行 页数：0页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
T/CSTM 01199-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H80/84 半金属与半导体材料
国际标准分类号（ICS）
29.045 半导体材料
发布日期
2024-01-05
实施日期
2024-04-05
发布单位/组织
-
归口单位
中关村材料试验技术联盟
适用范围
范围:本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。 本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征; 主要技术内容:本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征

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研制信息

起草单位：
季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司
起草人：
范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋、江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜
出版信息：
页数：- | 字数：- | 开本： -

内容描述

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