T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
T/CSTM 01199-2024 Multi-layer metal thin film layer structure measurement and analysis method X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/CSTM 01199-2024
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2024-01-05
实施日期
2024-04-05
发布单位/组织
-
归口单位
中关村材料试验技术联盟
适用范围
范围:本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。
本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征;
主要技术内容:本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征
发布历史
-
2024年01月
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研制信息
- 起草单位：
- 季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司
- 起草人：
- 范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋、江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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