T/CEMIA 030-2022 半导体用正胶显影液
T/CEMIA 030-2022 Positive photoresist developer for semiconductor manufacture
基本信息
本文件适用于半导体用正胶显影液,其主要组分为通过季铵盐化合物电解制得的四甲基氢氧化铵。
四甲基氢氧化铵的基本信息见附录A中的A.1。
发布历史
-
2022年04月
文前页预览
研制信息
- 起草单位:
- 杭州格林达电子材料股份有限公司
- 起草人:
- 邢攸美、李潇逸、张之钧、赵健、胡涛、李盈盈、陈东良、顾峻、徐文干、孙炜、刘新雨、王琪、周利超、李林佳、余红刚、倪芸岚、陈海刚、杨小平、章帅迪、刘永南、姚艺融、刘为波、翁雪平、傅华、高小云
- 出版信息:
- 页数:16页 | 字数:17 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS31.030
CCSL90
团体标准
/—
TCEMIA0302022
半导体用正胶显影液
Positivehotoresistdeveloerforsemiconductormanufacture
pp
2022-04-20发布2022-07-20实施
中国电子材料行业协会发布
/—
TCEMIA0302022
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
。。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
本文件由中国电子材料行业协会提出并归口。
:。
本文件主要起草单位杭州格林达电子材料股份有限公司
:()、、
本文件参与起草单位北方集成电路技术创新中心北京有限公司无锡三开高纯化工有限公司
、()。
沧州信联化工有限公司晶瑞湖北微电子材料有限公司
:、、、、、、、、、、、
本文件主要起草人邢攸美李潇逸张之钧赵健胡涛李盈盈陈东良顾峻徐文干孙炜刘新雨
、、、、、、、、、、、、、
王琪周利超李林佳余红刚倪芸岚陈海刚杨小平章帅迪刘永南姚艺融刘为波翁雪平傅华
高小云。
Ⅰ
/—
TCEMIA0302022
半导体用正胶显影液
1范围
、、、、、、
本文件规定了半导体用正胶显影液的分类和标记要求检验方法检验规则以及标志包装运输
贮存和安全。
,。
本文件适用于半导体用正胶显影液其主要组分为通过季铵盐化合物电解制得的四甲基氢氧化铵
四甲基氢氧化铵的基本信息见附录中的。
AA.1
2规范性引用文件
。,
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文
,;,()
件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于
本文件。
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GBT602
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GBT3143Hazen-
/液体化工产品采样通则
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GBT8170
/、
GBT8979纯氮高纯氮和超纯氮
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SJT11635
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SJT11636
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SJT11638
3术语和定义
本文件没有需要界定的术语和定义。
4缩略语
下列缩略语适用于本文件。
1
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