GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
GB/T 29505-2013 Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer
国家标准
中文简体
现行
页数：28页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2013-05-09
实施日期
2014-02-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
适用范围
本标准提供了硅片表面粗糙度测量常用的轮廓仪、干涉仪、散射仪三类方法的测量原理、测量设备和程序，并规定了硅片表面局部或整个区域的标准扫描位置图形及粗糙度缩写定义。
本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量；也可用于其他类型的平坦晶片材料，但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。
本标准不适用于带宽空间波长≤10 nm的测量仪器。
本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量；也可用于其他类型的平坦晶片材料，但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。
本标准不适用于带宽空间波长≤10 nm的测量仪器。
发布历史
-
2013年05月
研制信息
- 起草单位：
- 有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
- 起草人：
- 孙燕、李莉、卢立延、翟富义、向磊
- 出版信息：
- 页数：28页 | 字数：52 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS29.045
H80
中华人民共和国国家标准
/—
GBT295052013
硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
Testmethodformeasurinsurfacerouhnessonlanarsurfacesofsiliconwafer
ggp
2013-05-09发布2014-02-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT295052013
目次
前言…………………………Ⅲ
1范围………………………1
2规范性引用文件…………………………1
3术语和定义………………1
4方法提要…………………2
5干扰因素…………………3
6仪器设备…………………3
7粗糙度测量步骤…………………………5
8报告………………………8
()
附录规范性附录粗糙度测量规范和有关输出的例子……………
A9
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定制服务
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