T/ICMTIA SM0027-2022 先进存储工艺用300mm p-型硅单晶抛光片
T/ICMTIA SM0027-2022 Polished p-type silicon single crystal wafers for advanced storage process
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/ICMTIA SM0027-2022
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2022-05-10
实施日期
2022-05-31
发布单位/组织
-
归口单位
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
适用范围
主要技术内容:本文件规定了直径300mm、p-型、{100}晶向规格的硅抛光片的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、和质量证明书。本文件适用于先进存储工艺：DRAM、3D NAND、NOR用300mm p-型硅抛光片
发布历史
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研制信息
- 起草单位：
- 上海新昇半导体科技有限公司、武汉新芯集成电路制造有限公司、西安奕斯伟硅片技术有限公司
- 起草人：
- 冯天、李晴云、朱伟江、黄柏喻、时寒、夏亮、张振、兰洵
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
暂无内容
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