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GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

GB/T 29844-2013 Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy

国家标准 中文简体 现行 页数：10页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 29844-2013
相关服务
购买纸质版 商用授权
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
L90/94 电子设备与专用材料、零件、结构件
国际标准分类号（ICS）
31.030 电子技术专用材料
发布日期
2013-11-12
实施日期
2014-04-15
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
适用范围
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸，以及推荐的布局和设计规则，这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。
本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量，适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。

发布历史

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GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范-第1页
GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范-第2页
GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范-第3页
GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范-第4页

研制信息

起草单位：
上海华虹NEC电子有限公司
起草人：
王雷、伍强、朱骏、陈宝钦
出版信息：
页数：10页 | 字数：20 千字 | 开本： 大16开

内容描述

ICS31.030

L90

中华人民共和国国家标准

/—

GBT298442013

用于先进集成电路光刻工艺综合

评估的图形规范

Secificationsformetroloatternsforthe

pgyp

evaluationofadvancedhotolithrah

pgpy

2013-11-12发布2014-04-15实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

中华人民共和国

国家标准

用于先进集成电路光刻工艺综合

评估的图形规范

/—

GBT298442013

*

中国标准出版社出版发行

北京市朝阳区和平里西街甲号()

2100013

北京市西城区三里河北街号()

16100045

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服务热线:

010-51780168

010-68522006

年月第一版

20141

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    GB/T 16878-1997
    GB/T 16878-1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范
    现行
    SJ/T 10584-1994
    SJ/T 10584-1994

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