GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
GB/T 29844-2013 Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
国家标准
中文简体
现行
页数：10页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2013-11-12
实施日期
2014-04-15
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
适用范围
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸，以及推荐的布局和设计规则，这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。
本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量，适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量，适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
发布历史
-
2013年11月
研制信息
- 起草单位：
- 上海华虹NEC电子有限公司
- 起草人：
- 王雷、伍强、朱骏、陈宝钦
- 出版信息：
- 页数：10页 | 字数：20 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS31.030
L90
中华人民共和国国家标准
/—
GBT298442013
用于先进集成电路光刻工艺综合
评估的图形规范
Secificationsformetroloatternsforthe
pgyp
evaluationofadvancedhotolithrah
pgpy
2013-11-12发布2014-04-15实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
中华人民共和国
国家标准
用于先进集成电路光刻工艺综合
评估的图形规范
/—
GBT298442013
*
中国标准出版社出版发行
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16100045
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年月第一版
20141
定制服务
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