GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法
GB/T 42789-2023 Test method for gloss of silicon wafer
国家标准
中文简体
现行
页数：8页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 42789-2023
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2023-08-06
实施日期
2024-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。
本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有图形的硅片的测试。
本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有图形的硅片的测试。
发布历史
-
2023年08月
研制信息
- 起草单位：
- 浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技(衢州)有限公司
- 起草人：
- 梁兴勃、李琴、张海英、林松青、潘金平、李素青、张雪囡、由佰玲、边永智、庄智慧、沈辉辉、焦二强、韩云霄、徐志群、付明全、詹玉峰、王可胜
- 出版信息：
- 页数：8页 | 字数：17 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS77.040
CCSH21
中华人民共和国国家标准
/—
GBT427892023
硅片表面光泽度的测试方法
Testmethodforlossofsiliconwafer
g
2023-08-06发布2024-03-01实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
/—
GBT427892023
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
。。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)与全国半导体设备和材料标准
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