T/CEMIA 036-2023 半导体显示用高碱浓度负胶显影液
T/CEMIA 036-2023 High alkali concentration negative photoresist developer for semiconductor display
基本信息
发布历史
-
2023年11月
文前页预览
研制信息
- 起草单位：
- 福建省佑达环保材料有限公司、福州大学、福建华佳彩有限公司
- 起草人：
- 刘小勇、侯琳熙、姚慧君、田博、肖龙强、黄晓莉、黄子勗、房龙翔、陈泽生、肖小江、邱小真、叶鑫煌、李丛香、吴玲玲
- 出版信息：
- 页数：16页 | 字数：19 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS31.030
CCSL90
团体标准
/—
TCEMIA0362023
半导体显示用高碱浓度负胶显影液
Hihalkaliconcentrationneativehotoresistdeveloerforsemiconductordisla
ggpppy
2023-11-06发布2023-12-30实施
中国电子材料行业协会发布
中国标准出版社出版
/—
TCEMIA0362023
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
。。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
本文件由中国电子材料行业协会提出并归口。
:、、。
本文件起草单位福建省佑达环保材料有限公司福州大学福建华佳彩有限公司
:、、、、、、、、、、
本文件主要起草人刘小勇侯琳熙姚慧君田博肖龙强黄晓莉黄子勗房龙翔陈泽生肖小江
、、、。
邱小真叶鑫煌李丛香吴玲玲
Ⅰ
/—
TCEMIA0362023
半导体显示用高碱浓度负胶显影液
1范围
、、、、
本文件规定了半导体显示用高碱浓度负胶显影液的缩略语技术要求检验方法检验规则标志及
、、。
包装运输贮存和安全事项
、,
本文件适用于由氢氧化钾表面活性剂和水组成其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显
。
示用高碱浓度负胶显影液此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的
,()()
显影及薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD或有机发光二极管显示器OLED彩膜工艺光刻胶的
显影。
2规范性引用文件
。,
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文
,;,()
件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于
本文件。
GB190危险货物包装标志
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GBT8170
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GBT9724H
p
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GBT9725
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3术语和定义
本文件没有需要界定的术语和定义。
1
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