T/CEMIA 036-2023 半导体显示用高碱浓度负胶显影液

T/CEMIA 036-2023 High alkali concentration negative photoresist developer for semiconductor display

团体标准 中文简体 现行 页数:16页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
T/CEMIA 036-2023
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2023-11-06
实施日期
2023-12-30
发布单位/组织
中国电子材料行业协会
归口单位
中国电子材料行业协会
适用范围
本文件规定了半导体显示用高碱浓度负胶显影液的缩略语、技术要求、检验方法、检验规则、标志及包装、运输、贮存和安全事项。本文件适用于由氢氧化钾、表面活性剂和水组成,其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显示用高碱浓度负胶显影液。此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的显影,及薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)或有机发光二极管显示器(OLED)彩膜工艺光刻胶的显影。

发布历史

文前页预览

研制信息

起草单位:
福建省佑达环保材料有限公司、福州大学、福建华佳彩有限公司
起草人:
刘小勇、侯琳熙、姚慧君、田博、肖龙强、黄晓莉、黄子勗、房龙翔、陈泽生、肖小江、邱小真、叶鑫煌、李丛香、吴玲玲
出版信息:
页数:16页 | 字数:19 千字 | 开本: 大16开

内容描述

ICS31.030

CCSL90

团体标准

/—

TCEMIA0362023

半导体显示用高碱浓度负胶显影液

Hihalkaliconcentrationneativehotoresistdeveloerforsemiconductordisla

ggpppy

2023-11-06发布2023-12-30实施

中国电子材料行业协会发布

中国标准出版社出版

/—

TCEMIA0362023

前言

/—《:》

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GBT1.120201

起草。

。。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

本文件由中国电子材料行业协会提出并归口。

:、、。

本文件起草单位福建省佑达环保材料有限公司福州大学福建华佳彩有限公司

:、、、、、、、、、、

本文件主要起草人刘小勇侯琳熙姚慧君田博肖龙强黄晓莉黄子勗房龙翔陈泽生肖小江

、、、。

邱小真叶鑫煌李丛香吴玲玲

/—

TCEMIA0362023

半导体显示用高碱浓度负胶显影液

1范围

、、、、

本文件规定了半导体显示用高碱浓度负胶显影液的缩略语技术要求检验方法检验规则标志及

、、。

包装运输贮存和安全事项

、,

本文件适用于由氢氧化钾表面活性剂和水组成其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显

示用高碱浓度负胶显影液此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的

,()()

显影及薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD或有机发光二极管显示器OLED彩膜工艺光刻胶的

显影。

2规范性引用文件

。,

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

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件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

本文件。

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