T/CEMIA 024-2021 半导体单晶硅生长用石英坩埚生产规范

ICS29045

CCSL.90

团体标准

T/CEMIA024—2021

半导体单晶硅生长用石英坩埚生产规范

Quartzcruciblemanufacturingpracticesforsemiconductormonosilicongrowth

2021-07-15发布2021-12-25实施

中国电子材料行业协会发布

T/CEMIA024—2021

前言

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

。。

本文件由中国电子材料行业协会提出并归口

。

本文件主要起草单位锦州佑鑫石英科技有限公司内蒙古欧晶科技股份有限公司江西中昱新材

:、、

料科技有限公司

。

本文件参与起草单位宁波宝斯达坩埚保温制品有限公司常州裕能石英科技有限公司江阴龙源

:、、

石英制品有限公司江苏中天科技股份有限公司北京雅博石光照明器材有限公司隆基绿能科技股份

、、、

有限公司廊坊赫尔劳斯太阳能光伏有限公司湖南黎辉新材料科技有限公司中国建筑材料科学研究

、、、

总院有限公司

。

本文件主要起草人陈曼何文兵苏光都李宗辉杜兴林王文庆朱旦徐晓军朱剑李晓航

:、、、、、、、、、、

王君伟王慧韩东李秀英钱宜刚贾建亮万鹏远潘志华杨军周锐

、、、、、、、、、。

Ⅰ

T/CEMIA024—2021

半导体单晶硅生长用石英坩埚生产规范

1范围

本文件确立了半导体单晶硅生长用石英坩埚从业人员生产设备主要原辅材料生产工艺作业环

、、、、

境及产品质量管控的程序和总体原则

。

本文件适用于半导体单晶硅生长用石英坩埚的生产过程

。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

。,

件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

,;,()

本文件

。

污水综合排放标准

GB8978

工业企业厂界环境噪声排放标准

GB12348

大气污染物综合排放标准

GB16297

危险废物贮存污染控制标准

GB18597

一般工业固体废物贮存和填埋污染控制标准

GB18599

建筑照明设计标准

GB50034

洁净厂房设计规范

GB50073

工作场所有害因素职业接触限值第部分化学有害因素

GBZ2.11:

职业健康监护技术规范

GBZ188

工作场所物理因素测量第部分噪声

GBZ/T189.88:

石英玻璃术语

JC/T2205—2014

光伏单晶硅生长用石英坩埚生产规范

T/CEMIA005—2018

3术语和定义

界定的以及下列术语和定义适用于本文件

JC/T2205—2014、T/CEMIA005—2018。

31

.

电弧熔制electricarcfusion

利用高温电弧熔融石英砂原料的过程

。

来源有修改

[:T/CEMIA005—2018,3.1,]

32

.

外表面处理outersurfacetreatment

利用研磨器具或外力冲击作用去除石英坩埚外表面未完全熔融石英砂的过程

。

来源

[:T/CEMIA005—2018,3.2]

33

.

切边倒棱cuttingandchamfering

利用切割工具对石英坩埚毛边进行切断并对切割断面进行倒角处理的过程

,。

1