GB/T 15862-2012 离子注入机通用规范

GB/T 15862-2012 General specification of ion implantation equipment

国家标准 中文简体 现行 页数:11页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 15862-2012
相关服务
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2012-11-05
实施日期
2013-02-15
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
中国电子技术标准化研究所
适用范围
本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。
本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。

发布历史

研制信息

起草单位:
中国电子科技集团公司第四十八研究所
起草人:
郭健辉、彭立波、罗宏洋
出版信息:
页数:11页 | 字数:19 千字 | 开本: 大16开

内容描述

ICS31-550

L97

中华人民共和国国家标准

/—

GBT158622012

代替/—

GBT158621995

离子注入机通用规范

Generalsecificationofionimlantationeuiment

ppqp

国家标准ㅤ可打印ㅤ可复制ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页

2012-11-05发布2013-02-15实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

/—

GBT158622012

前言

本标准按照/—给出的规则起草。

GBT1.12009

本标准代替/—《离子注入机通用技术条件》。

GBT158621995

本标准与/—相比主要变化如下:

GBT158621995

————由/—代替;

GBn1931983GBT133841992

———“”()、“”(),

增加术语注入角度见3.6最大晶片传输效率见3.7并在性能指标及测试方法中做

();

相应要求见6.4.6

———;();

环境温度调整为相对湿度规定范围见

23℃±2℃30%~50%5.1.3

———“”();

安全要求中增加警示标识的条款见6.3.1

———、;

去掉表3表4

———());

均匀性测量增加了热波探针法测量条件和方法见6.4.4.1b

———();

重复性测量增加了批间重复性测量方法见6.4.5.2

———检验规则去掉例行检验项。

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/—

GBT158622012

离子注入机通用规范

1范围

、、、、、、、。

本标准规定了离子注入机的术语产品分类技术要求试验检验规则和标志包装运输贮存

。。

本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机其他离子注入机亦可参照使用

2规范性引用文件

。,

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,()。

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

/包装储运图示标志

GBT191

/—:

包装运输包装件基本试验第部分正弦定频振动试验方法

GBT4857.720057

/—设备可靠性试验恒定失效率假设下的失效率与平均无故障时间的验证试

GBT5080.71986

验方案

/—运输包装收发货标志

GBT63881986

/—机电产品包装通用技术条件

GBT133841992

、:、

机械安全指示标志和操作第部分关于视觉听觉和触觉信号的要求

GB18209.11

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/电子工业专用设备通用规范

SJT142

/金属镀层和化学处理层质量检验技术要求

SJT1276

/涂料涂覆通用技术条件

SJT10674

3术语

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

束能量beamener

gy

到达靶上离子所具有的动能。

:()。

注单位为电子伏特eV

3.2

着靶束流beamcurrentontaret

g

单位时间内靶上接收到的离子束电荷量。

:()。

注单位为安培A

3.3

均匀性uniformit

y

。。

表征注入离子剂量不均匀的程度用相对标准偏差表示

3.4

重复性reeatabilit

py

(),。

表征片间或批间在相同条件下注入离子剂量不重复的程度用相对标准偏差表示

1

/—

GBT158622012

3.5

真空度vacuum

,。

不引束条件下离子注入机真空室所能达到的最低压强

3.6

注入角度imlantanle

pg

离子束方向与晶片被注入表面法线方向之间的夹角。

3.7

最大晶片传输效率mechanicalthrouhut

gp

,()。

在单位时间内设备传输晶片的最大数量不包含注入过程

4产品分类

4.1离子注入机按能量高低分为:

)低能离子注入机;

a

)中能离子注入机;

b

)高能离子注入机;

c

)兆伏离子注入机。

d

4.2离子注入机按束流大小分为:

)小束流离子注入机;

a

)中束流离子注入机;

b

)强流离子注入机;

c

)超强流离子注入机。国家标准ㅤ可打印ㅤ可复制ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页

d

5技术要求

5.1工作条件

5.1.1气压:;

86kPa~106kPa

5.1.2环境温度:;

23℃±2℃

相对湿度:;

5.1.330%~50%

:;

5.1.4净化间洁净度由具体产品标准规定

:,;;

5.1.5供电电压三相五线制交流电压380V±10%频率50Hz±1%

接地电阻:。

5.1.6<4Ω

5.2一般要求

、、、,。

离子注入机的控制方式主要装置任选件备件应在具体产品标准和说明书中明确规定和说明

5.3外观要求

、、,、、、、

5.3.1设备的外观布置应整齐美观平整表面不应有明显的凸起凹陷粗糙不平划伤锈蚀等缺

,/。

陷符合SJT142的要求

、。

5.3.2标牌安装牢固字迹清晰

,、、,、、,

5.3.3油漆涂覆的零部件其漆层应平整清洁牢固光滑色泽一致不得有流挂起泡划痕等缺陷符

合SJ/T10674的要求。

,、、、、,/

5.3.4电镀及化学涂覆的零件其表面应光滑细致无斑点锈蚀起泡烧痕等缺陷符合SJT1276

2

/—

GBT158622012

的规定。

、。

5.3.5紧固件连接牢固无松动现象

5.4安全要求

“、、”,。

5.4.1设备上应对高压毒害运动部件等做警示标识符合GB18209.1的要求

,/。

5.4.2设备应有良好的射线防护设施在距机器外表面50mm处检测射线剂量应小于0.06mRh

,,,

5.4.3在离子源送气管路气源瓶柜真空排气部分等机柜上方要设有标准尺寸的排风口以便与用户

。,

厂房内的排气设施相连接离子源送气管路活动连接采用耐腐蚀不锈钢材料的金属密封气体管路和

()。,

控制元件能适应低压气瓶SDS气体使用设备如果采用有毒有害工艺气体用户应在气柜和气体管

路区间设置对应的气体泄漏检测报警装置。

,。

5.4.4高压区应隔离进入高压区的门上应有安全联锁装置和自动放电装置

、、、、、

5.4.5设备应有保障人身安全和设备安全的高压放电过载短路停电停水停气等故障的防护装置

,。

和报警联锁装置在操作区设置必要的紧急开关

的三相电源入线口与机壳之间应耐的交流电压、,

5.4.6设备1500V1min不被击穿和不产生放电其

漏电流不大于1.0mA。

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