GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
GB/T 34649-2017 Magnetron sputtering ruthenium target
国家标准
中文简体
现行
页数：8页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2017-09-29
实施日期
2018-04-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
适用范围
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶（以下简称钌靶）。
发布历史
-
2017年09月
研制信息
- 起草单位：
- 有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院
- 起草人：
- 罗俊锋、丁照崇、李勇军、向磊、万小勇、刘书芹、熊晓东、王庄、贺昕、滕海涛、高岩
- 出版信息：
- 页数：8页 | 字数：14 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS77.150.99
H68
中华人民共和国国家标准
/—
GBT346492017
磁控溅射用钌靶
Manetronsutterinrutheniumtaret
gpgg
2017-09-29发布2018-04-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT346492017
前言
本标准按照/—给出的规则起草。
GBT1.12009
本标准由中国有色金属工业协会提出。
(/)。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会SACTC243归口
:、。
本标准负责起草单位有研亿金新材料有限公司有色金属技术经济研究院
:、
定制服务
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