GB/T 11164-2011 真空镀膜设备通用技术条件

ICS23．160

J78

固雪

中华人民共和国国家标准

11164—2011

GB／T

11164

代替GB／T1999

真空镀膜设备通用技术条件

Vacuum

coatingplantgenericspecification

2011-11-21发布

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局学者

中国国家标准化管理委员会及113

11164—2011

GB／T

目次

前言……-

1范围…

2规范性引用文件……．i

3术语和定义…………

4技术要求……………2

5试验方法……………

6检验规则……………4<u

7标志、包装、运输、贮存5

11164—2011

GB／T

刖吾

本标准按照GB／T

1．1—2009给出的规则起草。

本标准代替GB／T11164--1999《真空镀膜设备通用技术条件》，与GB／T11164—1999相比主要变

化如下：

——为使用方便增加了目次；

11164

——修改了GB／T1999中真空镀膜设备的压力范围，由10_4Pa～lO。Pa修改为10“Pa～

103Pa；

——修改了GB／T11164--1999表1中镀膜室尺寸分档，增加了300、400、450、1100、1350、2200、

2400、2500、2600、3

200十档尺寸，并对带“*”号尺寸优先选用进行了调整；

——修改了GB／T

档镀膜设备的极限压力、抽气时间及升压率指标；

——因GB／T

11164—1999中部分规范性引用文件已修订，故本标准引用现行标准；

11164

——修改了GB／T1999的4．4．6，用表格的方式规定了设备配套的电器装置中各电气回路

的绝缘电阻值；

11164

——修改了GB／T1999的4．5．4及4．5．12，增加了安全防护内容。

本标准由中国机械工业联合会提出。

本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC／TC18)归口。

本标准负责起草单位：北京北仪创新真空技术有限责任公司。

本标准参加起草单位：上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器

有限公司、中国航天科技集团第五研究院第510研究所、上海惠丰石油化工有限公司、沈阳真空技术研

究所。

本标准主要起草人：陈月增、谢钧荣、范立群、孙凯、温发兰、靳毅、刘强、惠进德、王学智。

本标准所代替标准的历次版本发布情况为：

11164

——GB／T11164一1989、GB／T1999。

11164～2011

GB／T

真空镀膜设备通用技术条件

1范围

本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。

本标准适用于压力在10—Pa～10—3Pa范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下

简称设备)。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本适用于本

文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。

GB／T191—2008包装储运图示标志

3163—2007

GB／T真空技术术语

GB5226．1

2008机械电气安全机械电气设备第1部分：通用技术条件

GB／T6070

2007真空技术法兰尺寸

GB／T13308--2011标牌

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