T/TMAC 372-2026 全自动明场光学晶圆缺陷检测设备

T/TMAC 372-2026 Fully Automatic Brightfield Optical Wafer Defect Detection Equipment

团体标准 中文(简体) 现行 页数:0页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
T/TMAC 372-2026
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2026-03-30
实施日期
2026-03-30
发布单位/组织
-
归口单位
中国技术市场协会
适用范围
本文件适用于硅晶圆及化合物半导体晶圆进行自动化明场光学缺陷检测设备。 本文件规定了全自动明场光学晶圆缺陷检测设备技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存等内容

发布历史

文前页预览

当前资源暂不支持预览

研制信息

起草单位:
昂坤视觉(北京)科技有限公司、浙江昕微电子科技有限公司、北京中研博采技术服务有限公司、北京六只猫创意科技有限公司、北京彬诚科技有限公司
起草人:
马铁中、姚政鹏、乐志斌、夏卫彬、杨笛
出版信息:
页数:- | 字数:- | 开本: -

内容描述

暂无内容

定制服务

    推荐标准

    相似标准推荐

    更多>