T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法（CVD）培育钻石裸钻
T/STIC 110080-2022
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基本信息
发布历史
-
2022年07月
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研制信息
- 起草单位：
- 上海征世科技股份有限公司、上海铂世光半导体科技有限公司、上海钲戴梦商贸有限公司、武汉工程大学材料科学与工程学院、方圆标志认证集团上海有限公司、上海市检验检测认证协会
- 起草人：
- 龚闯、满卫东、胡庆坡、韩初、杨春梅、杨武、骆海燕、高春燕、郑学东
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
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