GB/T 14146-1993 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
GB/T 14146-1993 Silicon epitaxial layers—Determination of carrier concentration—Mercury probe Valtage-capacitance method
基本信息
发布历史
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1993年02月
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2009年10月
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2021年05月
研制信息
- 起草单位:
- 上海市有色金属总公司半导体材料厂
- 起草人:
- 王才康、殷妙廷、李泽
- 出版信息:
- 页数:5页 | 字数:8 千字 | 开本: 大16开
内容描述
中华人民共和国国家标准
硅外延层载流子浓度测定
汞探针电容一电压法GB/T14146一93
Silicon.epitaxiallayers-Determinationofcarrierconcentration-
Mercuryprobe
Valtage-capacitancemethod
1主题内容与适用范围
本标准规定了硅外延层载流子浓度汞探针电容-电压测量方法。
本标准适用于同质的硅外延层载流子浓度测量。测量范围为10;1^,10;,cm-,
2方法原理
汞探针与硅外延片表面接触,形成一个肖特基势垒在汞探针一与硅外延片之间加一反向偏压,结的
势垒宽度向外延层中扩展。结的势垒电容(C)及其随电j}(V)的变化率(do/dv)与势垒扩展宽度(,)
和其相应的载流子浓度CN(x)〕有如下关系:
N(x)二…(1)
,EOEA'卜ddoz.
=E.E·AIC。。.〔2
式中:二-一势垒扩展宽度'PM;
N(x)—载流子浓度,cm',
e—电子电荷1.602X10-",C;
:—硅的相对介电常数,其值为11.75;
‘-一真空介电常数,其值为8.859X10-",F/cm;
A一一汞一硅接触面积,cm20
:?要测得(',dc/d。和A,便可由式(1)和式(2)计算得到势垒扩展宽度二处的N(c)
3试剂与材料
3.1氢氟酸(p1.15g/mL),化学纯
3.2硝酸(p1.45g/ML),化学纯。
cm(25'C)
3.3去离子水,电阻率大于2Mn·
3.月汞纯度大于99.99%o
3.5氮气,纯度大于99.5%a
国家技术监督局1993一02一06批准1993一10一0,实施
GB/T14146一93
4测量仪器
4.飞电容仪或电容电桥量程为1^-1000pF,其精度不低于1。级测垦频率为。.L-1M11"直流电
压为-1200V,高频交流电压不大于250mV
4.2数字电压表:其精度不低干。5‘级,输入阻抗大于飞Mn
4.3直流电源:输出电压为。一200V,连续可调,电压波动小大1`1%a
4.4直流电流表:量程为。-2a,,iAo
4.5标准电容A和B,A和B电容量分别为10pF和100pF,在测量频率卜其精度不低)-n.2},
4.6双筒显微镜:带有测微标尺.长1mm,最小分度值为。.01mm
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