T/CEMIA 032-2022 显示面板用氧化层缓冲刻蚀液
T/CEMIA 032-2022 Buffered oxide etchant for display panels
基本信息
本文件适用于由氢氟酸水溶液和氟化铵水溶液组成的显示面板用氧化层缓冲刻蚀液，适用于显示面板制造中硅氧化物和氮化硅层的蚀刻，同样适用于硅氧化物和氮化硅层的清洗过程。
氢氟酸和氟化铵的基本信息见附录A中的A.1。
发布历史
-
2022年04月
文前页预览
研制信息
- 起草单位：
- 杭州格林达电子材料股份有限公司
- 起草人：
- 蒋哲男、邢攸美、高立江、胡涛、陈东良、张之钧、胡阳、刘伟鑫、闫广学、周淑飞、张振洋、梁龙飞、彭澳、徐森彪、李盈盈、洪明卫、季文涛、王小栋、刘永南、施珂、李林佳、周利超、陈海刚、章帅迪、徐一航
- 出版信息：
- 页数：16页 | 字数：19 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS31.030
CCSL90
团体标准
/—
TCEMIA0322022
显示面板用氧化层缓冲刻蚀液
Bufferedoxideetchantfordislaanels
pyp
2022-04-20发布2022-07-20实施
中国电子材料行业协会发布
/—
TCEMIA0322022
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
。。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
本文件由中国电子材料行业协会提出并归口。
:。
本文件主要起草单位杭州格林达电子材料股份有限公司
:、、
本文件参与起草单位成都京东方光电科技有限公司迈奇化学股份有限公司英格尔检测技术服
()。
务上海有限公司
:、、、、、、、、、、
本文件主要起草人蒋哲男邢攸美高立江胡涛陈东良张之钧胡阳刘伟鑫闫广学周淑飞
、、、、、、、、、、、、、
张振洋梁龙飞彭澳徐森彪李盈盈洪明卫季文涛王小栋刘永南施珂李林佳周利超陈海刚
、。
章帅迪徐一航
Ⅰ
/—
TCEMIA0322022
显示面板用氧化层缓冲刻蚀液
1范围
、、、、、
本文件规定了显示面板用氧化层缓冲刻蚀液的缩略语分类要求检验方法检验规则以及标志
、、。
包装运输贮存和安全
,
本文件适用于由氢氟酸水溶液和氟化铵水溶液组成的显示面板用氧化层缓冲刻蚀液适用于显示
,。
面板制造中硅氧化物和氮化硅层的蚀刻同样适用于硅氧化物和氮化硅层的清洗过程
氢氟酸和氟化铵的基本信息见附录中的。
AA.1
2规范性引用文件
。,
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文
,;,()
件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于
本文件。
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/化学试剂杂质测定用标准溶液的制备
GBT602
/化学试剂试验方法中所用制剂及制品的制备
GBT603
/—化工产品采样总则
GBT66782003
/液体化工产品采样通则
GBT6680
/数值修约规则与极限数值的表示和判定
GBT8170
/、
GBT8979纯氮高纯氮和超纯氮
/电子级水
GBT11446.1
GB15258化学品安全标签编写规定
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GB500732013
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SJT11638
3术语和定义
本文件没有需要界定的术语和定义。
4缩略语
下列缩略语适用于本文件。
:高密度聚乙烯
HDPEHihDensitPolethlene
gyyy
1
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