YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材

ICS77.150.99

H63

中华人民共和国有色金属行业标准

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YST10242015

溅射用钽靶材

Tantalumsutterintarets

pgg

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2015-04-30发布2015-10-01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

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YST10242015

溅射用钽靶材

1范围

、、、、、、

本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求试验方法检验规则及标志包装运输贮存

()。

质量证明书和订货单或合同内容

,、、、

本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料通过塑性加工热处理机械加工焊接等方法

()。

制造的溅射用钽靶材以下简称钽靶材

2规范性引用文件

。,

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,()。

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

/一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差

GBT1804

/:

金属材料维氏硬度试验第部分试验方法

GBT4340.11

/金属平均晶粒度测定方法

GBT6394

/金属板材超声板波探伤方法ㅤㅤㅤㅤ

GBT8651

/钽铌化学分析方法碳量和硫量的测定

GBT15076.8

/钽铌化学分析方法钽中氮量的测定

GBT15076.13

/钽铌化学分析方法氧量的测定

GBT15076.14

/钽铌化学分析方法氢量的测定

GBT15076.15

/—无损检测目视检测总则

GBT209672007

/溅射靶材背板结合质量超声波检验方法

YST837-

/高纯钽化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法

YST899

3要求

3.1产品分类

钽靶材按纯度分为:()、()、()三个级别。

3N599.95%4N99.99%4N599.995%

3.2化学成分

钽靶材的化学成分应符合表的规定。

1

1

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YST10242015

表1钽靶材化学成分表

,

Ta含量不小于99.95%99.99%99.995%

简称3N54N4N5

Al1050.5

Ca520.5

Co1010.5

Cr10100.5

Cu1030.5

Fe5030.5

K10.50.5

Li10.10.1

Mg1010.5

Mn1010.5

Mo501010

Na10.50.4

非气体杂质含量,

(-4),

×10%不大于Nb30010030

Ni2020.5

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Si20100.5

Sn520.5

Th10.010.005

Ti521