GB/T 28275-2012 硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范
GB/T 28275-2012 Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for KOH etch process
国家标准
中文简体
现行
页数：10页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2012-05-11
实施日期
2012-12-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
适用范围
本标准规定了采用氢氧化钾腐蚀工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求。
本标准适用于氢氧化钾腐蚀工艺和管理。
本标准适用于氢氧化钾腐蚀工艺和管理。
发布历史
-
2012年05月
研制信息
- 起草单位：
- 中国科学院上海微系统与信息技术研究所、重庆大学、东南大学、中国电子科技集团第四十九研究所、中机生产力促进中心
- 起草人：
- 夏伟锋、熊斌、冯飞、戈肖鸿、周再发、李玉玲、贺学锋、田雷、刘伟
- 出版信息：
- 页数：10页 | 字数：16 千字 | 开本： 大16开
内容描述
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