GB/T 1551-2021 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法

GB/T 1551-2021 Test method for measuring resistivity of monocrystal silicon—In-line four-point probe and direct current two-point probe method

国家标准 中文简体 现行 页数:24页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 1551-2021
相关服务
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2021-05-21
实施日期
2021-12-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备与材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备与材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC2)
适用范围
本文件规定了用直排四探针法和直流两探针法测试硅单晶电阻率的方法。
本文件适用于硅单晶电阻率的测试,其中直排四探针法可测试的p型硅单晶电阻率范围为7×10-4 Ω·cm~8×103 Ω·cm,n型硅单晶电阻率范围为7×10-4 Ω·cm~1.5×104 Ω·cm;直流两探针法适用于测试截面积均匀的圆形、方形或矩形硅单晶的电阻率,测试范围为1×10-3 Ω·cm~1×104 Ω·cm,样品长度与截面最大尺寸之比不小于3:1。硅单晶其他范围电阻率的测试可参照本文件进行。

发布历史

研制信息

起草单位:
中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、有研半导体材料有限公司、广州市昆德科技有限公司、青海芯测科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司、乐山市产品质量监督检验所、中国计量科学研究院、亚洲硅业(青海)股份有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、开化县检验检测研究院、南京国盛电子有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、义乌力迈新材料有限公司
起草人:
刘立娜、刘兆枫、何烜坤、刘刚、杨素心、孙燕、高英、王昕、梁洪、潘金平、楼春兰、宗冰、李慎重、潘文宾、蔡丽艳、王志强、皮坤林
出版信息:
页数:24页 | 字数:46 千字 | 开本: 大16开

内容描述

ICS77.040

CCSH21

中华人民共和国国家标准

/—

GBT15512021

代替/—

GBT15512009

硅单晶电阻率的测定

直排四探针法和直流两探针法

Testmethodformeasurinresistivitofmonocrstalsilicon—

gyy

In-linefour-ointrobeanddirectcurrenttwo-ointrobemethod

pppp

2021-05-21发布2021-12-01实施

国家市场监督管理总局

发布

国家标准化管理委员会

/—

GBT15512021

前言

/—《:》

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GBT1.120201

起草。

/—《》,/—,

本文件代替GBT15512009硅单晶电阻率测定方法与GBT15512009相比除结构调整

,:

和编辑性改动外主要技术变化如下

)(,);

更改了直排四探针法的适用范围见第章年版的第章

a120091

)“”“”();

范围中增加了硅单晶其他范围电阻率的测试可参照本文件进行见第章

b1

)/();

增加了规范性引用文件见第章

cGBT142642

)“”();

增加了术语和定义见第章

d3

)(,、);

更改了测试环境温度的要求见第章年版的第章第章

e42009213

)“”(,、);

f更改了干扰因素中光照对测试结果的影响见5.12009年版的3.114.1

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g增加了少数载流子注入对测试结果具体影响的干扰因素见5.3

)“”(,、);

h更改了干扰因素中温度对测试结果的影响见5.42009年版的3.414.4

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i增加了探针振动探针头类型对测试结果影响的干扰因素见5.55.6

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j增加了直排四探针法测试时样品发热探针与样品接触的位置对测试结果影响的干扰因素见

)、)];

5.7a5.7c

)、、

k增加了直流两探针法测试时样品电阻率不均匀存在轻微裂痕或其他机械损伤导电类型不唯

();

一对测试结果影响的干扰因素见5.8

)();

l删除了直流两探针法测试干扰因素中探针间距的内容见2009年版的14.6

)(,);

更改了直排四探针法的测试原理见年版的第章

m6.120094

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n增加了直排四探针法中试剂和材料见6.2

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