GB/T 1550-1997 非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T 1550-1997 Standard methods for measuring conductivity type of extrinsic semiconducting materials
基本信息
发布历史
-
1997年06月
-
2018年12月
研制信息
- 起草单位:
- 峨嵋半导体材料厂
- 起草人:
- 陈永同、刘文魁、吴福立
- 出版信息:
- 页数:10页 | 字数:16 千字 | 开本: 大16开
内容描述
GB/T1550一1997
弓绪
前.二刁
本标准等效采用美国试验与材料协会ASTMF42-88《非本征半导体材料导电类型测试方法》,结
合我国实际情况,对国家标准GB1550-79,GB5256-85进行修订而成的,在技术内容上与ASTM标
准等效。
为了满足需要,本标准增加了“室温电阻率大于40fl-cm的锗半导体材料导电类型的测定,探针
采用铅或石墨等材料制作,热探针温度高于室温50Ca
在“引用标准”中,凡我国已有国家标准的,均用相应的国家标准代替ASTMF42-88中的“引用标
准”。
本标准与GB1550-79,GB5256-85比较,增加了侧试方法B—冷探针法、方法D—全类型系
统测试方法,扩大了使用范围,增加了干扰因素一章,这就使本标准更好地满足国内半导体材料生产厂、
用户对晶锭、晶片的测试要求。
本标准从生效之日起,代替GB1550-79,GB5256-85,
本标准由中国有色金属工业总公司提出。
本标准由中国有色金属工业总公司标准计量研究所归口。
本标准起草单位:峨媚半导体材料厂。
本标准主要起草人:陈永同、刘文魁、吴福立。
中华人民共和国国家标准
GB/T1550一1997
非本征半导体材料导电类型测试方法
1550-79
Standardmethodsformeasuringconductivity代替GGBB5256-85
typeofextrinsicsemiconductingmaterials
范围
1.1本标准规定了非本征半导体材料导电类型的测试方法。
本标准适用于非本征半导体材料导电类型的测定,其中较详细地规定了锗和硅导电类型的测试方
法。本标准方法能保证对均匀的同一导电类型的材料测得的可靠结果,对于非均匀试样,可在其表面上
测出不同导电类型区域。
本标准方法不适用于分层结构试样,如外延片的导电类型的测定。
1.2本标准包括四种测试方法。
1.2.1方法A—热探针,热电势导电类型测试方法。
1.2.2方法B—冷探针,热电势导电类型测试方法。
1.2.3方法C—点接触,整流导电类型测试方法。
1.2.4方法D—全类型系统测试方法。
1.2.4.1方法D,—整流导电类型测试方法。
1.2.4.2方法DZ—热电势导电类型测试方法。
1.3方法A,对室温电阻率10000"cm以下的n型和p型硅,可给出可靠的测试结果。
1.4方法B,对室温电阻率200·cm以下的n型和p型锗,室温电阻率1000t2"cm以下的n型和P
型硅,可给出可靠的测试结果。
1.5方法C,对室温电阻率1-10000"cm之间的n型和p型硅,可给出可靠的测试结果。而对于锗
材料,此方法不宜采用。
1.六匕方法D,,适用于室温下电阻率0.1-10000rcm的n型和P型硅材料。
1.,r方法DZ,适用于室温电阻率。.002^0.10"cm的n型和P型硅材料。
1.OU这些方法也可用于测定电阻率超过上述范围的锗和硅材料,但对超出诸范围的适用性未经实验验
证O
1.O
J如果用这些方法不能得到满意的结果,建议采用GB4326中阐述的“霍耳效应测试方法”来测定
试样的导电类型。
2引用标准
下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均
为有效。所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列最新版本的可能性。
GB/T1552-1995硅、锗单晶电阻率测定直排四探针法
GB4326-84非本征半导体单晶霍耳迁移率和霍耳系数测量方法
GB/T14264-93半导体材料术语
国家技术监督局1997一06一03批准1997一12一01实施
GB/T1550一19'97
3方法提要
3.1方法A和方法B:在这两种方法中,具有不同温度的两只金属探针接触试样后,在两只探针间产
生热电势信号,依此可检验出试样的导电类型。当试样为n型时,相对于较冷的探针,较热的探针呈现为
正极,若为P型,则呈现为负极。用一只中心刻度为零的电压表或微安表,可观察到这种极性指示。由于
最大温差发生在加热或致冷的探针周围,因此所观察到的信号极性是由这两只探针接触试样部分的导
电类型所决定的。
3.2方法c:本方法通过半导体一金属点接触的电流方向,可确定半导体的导电类型。当半导体试样为
负极时,金属点接触与n型半导体间会有电流通过。将一个交变电压加在半导体一金属点接触和另一个
大面积欧姆接触之间,则在中心刻度为零的微安表、示波器和曲线示踪仪上可观察到电流的方向。由于
在半导体一金属点接触处出现整流现象,而在大面积欧姆接触处则不会发生,因此电流的方向是由半导
体一金属点接触处试样的导电类型所决定的。
3.3方法Dl:本方法用点接触反向偏置所需的电压极性来确定试样的导电类型。在接触试样的两个触
点间加一个交变电压,在上半个周期内,一个触点会反向偏置,并承受大部分电压降。在紧接着的下半个
周期
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