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GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

GB/T 24578-2009 Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy

国家标准 中文简体 被代替 已被新标准代替，建议下载标准 GB/T 24578-2024 | 页数：11页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 24578-2009
标准类型
国家标准
标准状态
被代替
中国标准分类号（CCS）
H80/84 半金属与半导体材料
国际标准分类号（ICS）
29.045 半导体材料
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
适用范围
1.1本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法，本方法使用单色X光源全反射X光荧光光谱的方法定量测定硅单晶抛光衬底表面层的元素面密度。1.2本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。

发布历史

文前页预览

GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法-第1页
GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法-第2页
GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法-第3页

研制信息

起草单位：
有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子有限公司
起草人：
孙燕、李俊峰、楼春兰、卢立延、张静、翟富义
出版信息：
页数：11页 | 字数：18 千字 | 开本： 大16开

内容描述

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