GB/T 6624-2009 硅抛光片表面质量目测检验方法

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中华人民共和国国家标准

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犌犅犜６６２４２００９

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ＧＢＴ６６２４１９９５

硅抛光片表面质量目测检验方法

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２００９１０３０发布２０１００６０１实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

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犌犅犜６６２４２００９

前言

本标准代替／—《硅抛光片表面质量目测检验方法》。

ＧＢＴ６６２４１９９５

本标准与原标准相比主要有如下变化：

———修改了高强度汇聚光源照度要求，由不小于１６０００ｌｘ改为不小于２３００００ｌｘ；

———增加了净化室级别要求；

———扩大了照度计测量范围为０ｌｘ３３００００ｌｘ；

～

———增加了测量长度工具；

———更改检测条件中光源与硅片之间的距离要求。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。

本标准主要起草单位：上海合晶硅材料有限公司。

本标准主要起草人：徐新华、王珍。

本标准所替代标准的历次版本发布情况为：

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ＧＢＴ６６２４１９８６ＧＢＴ６６２４１９９５

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犌犅犜６６２４２００９

硅抛光片表面质量目测检验方法

１范围

本标准规定了在一定光照条件下，用目