GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法

ICS71.040.40

G04

中华人民共和国国家标准

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GBT324952016ISO124062010

表面化学分析二次离子质谱

硅中砷的深度剖析方法

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SurfacechemicalanalsisSecondar-ionmasssectrometr

yypy

Methodfordethrofilinofarsenicinsilicon

ppg

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ISO124062010IDT

2016-02-24发布2017-01-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

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GBT324952016ISO124062010

目次

前言…………………………Ⅰ

引言…………………………Ⅱ

1范围………………………1

2规范性引用文件…………………………1

3术语和定义………………1

4符号和缩略语……………1

5原理………………………2

6参考物质…………………2

6.1用于校准相对灵敏度因子的参考物质……………2

6.2用于校准深度的参考物质…………2

7仪器………………………2

7.1二次离子质谱仪……………………2

7.2触针式轮廓仪………………………2

7.3光学干涉仪…………………………2

8样品………………………2

9步骤………………………2

9.1二次离子质谱仪的调整……………2

9.2优化二次离子质谱仪的设定………………………3

9.3进样…………………3

9.4被测离子……………3

9.5样品检测……………4

9.6校准…………………4

10结果表述…………………5

11测试报告…………………5

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附录资料性附录硅中砷深度剖析巡回测试报告

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