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GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

GB/T 20176-2006 Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

国家标准 中文简体 现行 页数：19页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 20176-2006
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
N33 电子光学与其他物理光学仪器
国际标准分类号（ICS）
71.040.40 化学分析
发布日期
2006-03-27
实施日期
2006-11-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微束标准化技术委员会
适用范围
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10 16 atoms/cm 3~1×10 20 atoms/cm3。

发布历史

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GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度-第1页
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度-第2页
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度-第3页
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度-第4页
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度-第5页

研制信息

起草单位：
清华大学电子工程系
起草人：
查良镇、陈旭、黄雁华、王光普、黄天斌、刘林、葛欣、桂东
出版信息：
页数：19页 | 字数：32 千字 | 开本： 大16开

内容描述

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