GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 20176-2006 Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
国家标准
中文简体
现行
页数：19页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 20176-2006
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2006-03-27
实施日期
2006-11-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微束标准化技术委员会
适用范围
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10 16 atoms/cm 3~1×10 20 atoms/cm3。
发布历史
-
2006年03月
-
2025年06月
研制信息
- 起草单位：
- 清华大学电子工程系
- 起草人：
- 查良镇、陈旭、黄雁华、王光普、黄天斌、刘林、葛欣、桂东
- 出版信息：
- 页数：19页 | 字数：32 千字 | 开本： 大16开
内容描述
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