T/ICMTIA 5.1-2020 集成电路用 ArF 干式光刻胶
T/ICMTIA 5.1-2020 ArF dry photoresist used in integrated circuits
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/ICMTIA 5.1-2020
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2020-12-31
实施日期
2021-03-01
发布单位/组织
-
归口单位
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
适用范围
范围:本文件适用于集成电路用 ArF 干式光刻胶;
主要技术内容:本文件规定了 ArF 干式光刻胶的要求、试验方法、检测标准及包装、运输、存储要求
发布历史
-
2020年12月
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研制信息
- 起草单位：
- 宁波南大光电材料有限公司
- 起草人：
- 许从应、毛智彪、马潇、顾大公、陈伟琴、李珊珊
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
暂无内容
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