T/ICMTIA 5.1-2020 集成电路用 ArF 干式光刻胶
T/ICMTIA 5.1-2020 ArF dry photoresist used in integrated circuits
团体标准
中文(简体)
现行
页数：0页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
T/ICMTIA 5.1-2020
标准类型
团体标准
标准状态
现行
发布日期
2020-12-31
实施日期
2021-03-01
发布单位/组织
-
归口单位
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
适用范围
范围:本文件适用于集成电路用 ArF 干式光刻胶;
主要技术内容:本文件规定了 ArF 干式光刻胶的要求、试验方法、检测标准及包装、运输、存储要求
发布历史
-
2020年12月
文前页预览
当前资源暂不支持预览
研制信息
- 起草单位：
- 宁波南大光电材料有限公司
- 起草人：
- 许从应、毛智彪、马潇、顾大公、陈伟琴、李珊珊
- 出版信息：
- 页数：- | 字数：- | 开本： -
内容描述
暂无内容
定制服务
推荐标准
- T/ZZB 0370-2018 纬编机用输纱器 2018-06-22
- T/ZZB 2694-2022 阻燃反光警示带 2022-04-13
- T/CNTAC 87-2021 聚乳酸纤维与棉混纺纱 2021-12-27
- T/SHDSGY 212-2022 高牢度服装面料 2022-12-27
- T/ZZB 2374-2021 纺织经纱上浆用玉米原淀粉浆料 2021-09-01
- T/GDTEX 03-2021 茛纱 2021-07-20
- T/ZZCS 001-2018 震泽蚕丝绵 2018-12-25
- T/JZMP 002-2018 毛皮 材质鉴别通用方法 2018-06-10
- T/ZZB 0443-2018 有色锦纶6弹力丝 2018-08-17
- T/JMZJXH 001-2020 干 巾 2020-07-29