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T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

T/ICMTIA 5.3-2020 The method of inspecting ArF photoresist used in integrated circuits using optical lithography

团体标准 中文(简体) 现行 页数：0页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
T/ICMTIA 5.3-2020
标准类型
团体标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
G64 高纯试剂、高纯物质
国际标准分类号（ICS）
29.045 半导体材料
发布日期
2020-12-31
实施日期
2021-03-01
发布单位/组织
-
归口单位
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
适用范围
范围:本文件适用于集成电路用ArF光刻胶; 主要技术内容:本文件规定了ArF光刻胶的光刻检测要求及方法、检测标准及包装、运输、存储及环保要求

发布历史

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研制信息

起草单位：
宁波南大光电材料有限公司
起草人：
许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊
出版信息：
页数：- | 字数：- | 开本： -

内容描述

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