GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
GB/T 24580-2009 Test method for measuring Boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
国家标准
中文简体
现行
页数：9页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
适用范围
-
发布历史
-
2009年10月
研制信息
- 起草单位：
- 信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所
- 起草人：
- 马农农、何友琴、丁丽
- 出版信息：
- 页数：9页 | 字数：13 千字 | 开本： 大16开
内容描述
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中华人民共和国国家标准
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重掺型硅衬底中硼沾污的
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二次离子质谱检测方法
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２００９１０３０发布２０１００６０１实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
／—
犌犅犜２４５８０２００９
前言
本标准修改采用《用二次离子质谱法测量重搀杂型硅衬底中的硼污染的方
ＳＥＭＩＭＦ１５２８１１０４Ｎ
法》。本标
定制服务
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