GB/T 38976-2020 硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法

ICS77.040

中华人民共和国国家标准

GB/T38976—2020

硅材料中氧含量的测试

+,-./0123

Testmethodfortheoxygenconcentrationinsiliconmaterials—

Inertgasfusioninfrareddetectionmethod

2020-07-21发布2021-06-0167

国准mus发布

GB/T38976—2020

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刖言

本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会SAC/TC（203)与全国半导体设备和材料标准

化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。

本标准起草单位:有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、

北京聚睿众邦科技有限公司、厦门银固美能源科技有限公司。

本标准主要起草人:王永涛、孙燕、徐新华、胡金枝、任丹雅、赵志婷、蔡丽艳、杨素心、陆敏、林兴乐。

丄

GB/T38976—2020

硅材料中氧含量的测试

惰性气体熔融红外法

1范围

本标准规定了采用惰性气体熔融及红外技术测试硅材料中氧含量的方法。

本标准适用于不同导电类型、不同电阻率范围的硅单晶、多晶硅中氧含量的测试，测试范围为2.5X

IO15cm3(0.05ppma)〜2.5X1018cm3(50ppma)。

注：硅材料中的氧含量以每立方厘米中的原子数计。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文

件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本)包括所有的修改单*适用于本文件。

GB/T1557硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法

GB/T14264半导体材料术语

3术语和定义

GB/T14264界定的术语和定义适用于本文件。

4方法原理

将预先称重的样品放置于高纯双层石墨坩埚中，样品在惰性气体的保护下，高温加热熔融，释放出

氧、氮和氢。样品中氧均与石墨坩埚中的碳结合生成一氧