YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
YS/T 23-2016 Test method for thickness of epitaxial layers—Stacking fault size
行业标准-有色金属
中文简体
现行
页数：7页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
行业标准-有色金属
标准状态
现行
发布日期
2016-04-05
实施日期
2016-09-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)
适用范围
本标准规定了利用堆垛层错尺寸法测量硅外延层厚度的方法。
本标准适用于在111、100和110晶向的硅单晶衬底上生长的2 μm～120 μm硅外延层厚度的测量。
本标准适用于在111、100和110晶向的硅单晶衬底上生长的2 μm～120 μm硅外延层厚度的测量。
发布历史
-
1992年03月
-
2016年04月
研制信息
- 起草单位：
- 南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、上海晶盟硅材料有限公司
- 起草人：
- 马林宝、杨帆、葛华、刘小青、孙燕、徐新华
- 出版信息：
- 页数：7页 | 字数：12 千字 | 开本： 大16开
内容描述
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