适用范围：本文件规定了危险化学品企业避免或减少雷电危害的一般要求、雷电预警、雷电防护和检测、检查、运维措施。 本文件适用于危险化学品生产、经营（有储存）企业的雷电安全防护。

适用范围：本文件给出了辉光放电质谱(GD-MS)的操作和使用程序。目前在用的几种GD-MS系统来自不同的制造商，本文件描述了所适用操作程序的差异。 注： 本文件旨在配合仪器制造商的操作手册和推荐内容使用。

适用范围：本文件规定了核酸提取用悬浮液和粉体形式磁珠的特性，包括关键特性以及用于核酸提取的附加特性，并描述了适用的测量方法。 本文件涉及含有大量磁性纳米颗粒（具有超顺磁性)的磁珠。 本文件不涉及磁珠相关健康、安全和环境方面。

适用范围：本文件规定了基于模型数据库(MBL)方法通过测长扫描电子显微镜(CD-SEM)成像来测定晶圆和光掩膜的关键尺寸(CD)值所需的结构模型、相关参数、文件格式和拟合程序。 本文件适用于试样的线宽测定，如晶圆上的栅极、光掩膜、单个孤立或密集排列的线特征图案，最小达10 nm。

适用范围：本文件规定了用于表征AFM探针形状，特别是柄和近尖端轮廓的两种方法。这两种方法分别通过将AFM探针尖轮廓投影到指定平面上，或者在确定的操作条件下将探针柄的特征投影到该平面上来实现。其中，后一种方法可以给出探针用于狭窄沟槽和类似轮廓结构的深度测量时的有效性。本文件适用于半径大于5u0的探针，其中u0是用于表征探针的参考样品脊形结构宽度的不确定度。

适用范围：本文件规定了X射线光电子能谱(XPS)分析中，由X射线辐照导致试样元素组成或化学态的非预期性损伤的识别、评估和校正方法的要求。 本文件仅适用于X射线引起的非预期性损伤，导致光电子谱峰强度的降低或增加小于30%。本文件不涉及不同类型材料之间的比较，也不涉及发生损伤的机制、深度或化学性质。

适用范围：本文件描述了在常规分析条件下从特定样品获得的X射线光电子能谱(XPS)数据中评估元素检测限并给出报告的程序。本文件适用于均匀材料，对XPS信息深度内元素深度分布不均匀的材料不适用。

适用范围：本文件描述了对材料薄膜进行协助表面分析的方法，这些薄膜不含有碳化合物作为预期成分，但在全扫描谱中观察到C 1s峰。这些薄膜可通过有氧或电化学氧化在金属和合金上生成，也可沉积在惰性基底上的。所述程序不适用于在基底上颗粒的不连续沉积。除此之外，还提供了一个可从含碳的表面污染物中识别C 1s信号的简单程序。当C 1s峰被确定为来自于外来的覆盖层时，从全谱中得出的成分可针对其影响进行校正。建议的程序以“如果-则”格式的简单规则结构形式所提供，目的是让它们所包含的信息可被数据系统中的自动化程序所利用。所提供的规则仅利用从XPS全扫描（谱）中检索的信息。

适用范围：本文件提供了在表面化学分析前生物材料样品的处理、安装和表面处理方法的指导。其目的是帮助分析人员了解在进行分析时，使用如下技术对特殊样品处理所需的条件： ——X射线光电子能谱(XPS)或化学分析电子能谱 (ESCA)； ——二次离子质谱 (SIMS)； ——俄歇电子能谱(AES)。 所提出的方法也适用于其他对表面组成分析灵敏的技术，如： ——衰减全反射傅里叶变换红外光谱 (ATR-FTIR)； ——全反射X射线荧光光谱(TXRF)； ——紫外光电子能谱 (UPS)。 本文件阐述了所用真空条件的影响和检测前后及植入前后的污染问题，以及在检测过程中与污染相关的问题。这里的生物材料包括硬质和软质，如金属、陶瓷、支架和聚合物。 本文件不包括诸如细胞、组织和生物体等活体生物材料。本文件中不涵盖的其他相关主题还包括电子显微镜或光学显微镜的样品制备。