T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法

T/CIE 132-2022 Test methods for thin film thickness of magnetron sputtering equipment

团体标准中文简体现行页数：11页 | 格式：PDF

基本信息

标准号

T/CIE 132-2022

标准类型

团体标准

标准状态

现行

中国标准分类号（CCS）

J78 真空技术与设备

国际标准分类号（ICS）

23.160 真空技术

发布日期

2022-08-10

实施日期

2022-08-10

发布单位/组织

中国电子学会

归口单位

中国电子学会

适用范围

本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法，测试原理，被测件，测试环境和测试程序等。
本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。

发布历史

2022年08月

T/CIE 132-2022　磁控溅射设备薄膜精度测试方法

当前标准现行 2022-08-10

文前页预览

研制信息

起草单位：: 北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司

起草人：: 赵巍胜、张博宇、程厚义、SylvainEIMER、彭守仲、许涌、PierreVALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆

出版信息：: 页数：11页 | 字数：23 千字 | 开本：大16开

内容描述

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