T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法

ICS23160

CCSJ7.8

团体标准

T/CIE132—2022

磁控溅射设备薄膜精度测试方法

Testmethodsforthinfilmthicknessofmagnetronsputteringequipment

2022-08-10发布2022-08-10实施

中国电子学会发布

中国标准出版社出版

T/CIE132—2022

目次

前言

…………………………Ⅲ

范围

1………………………1

规范性引用文件

2…………………………1

术语和定义

3………………1

测试方法

4…………………2

设备基本条件测试

4.1…………………2

镀膜精度测试

4.2………………………3

Ⅰ

T/CIE132—2022

前言

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

。。

本文件由中国电子学会提出并归口

。

本文件起草单位北京航空航天大学合肥致真精密设备有限公司合肥致真智能装备有限公司

:、、、

北京维开科技有限公司北京北方华创微电子装备有限公司致真存储北京科技有限公司深圳亘存

、、()、

科技有限责任公司

。

本文件主要起草人赵巍胜张博宇程厚义彭守仲许涌

:、、、SylvainEIMER、、、PierreVALLOBRA、

王子路姚宇暄许人友葛继尧杜寅昌杜鸿基李殿浦杨玉杰王戈飞刘宏喜郭玮何帆

、、、、、、、、、、、。

Ⅲ

T/CIE132—2022

磁控溅射设备薄膜精度测试方法

1范围

本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法测试原理被测件测试环境和测试程序等

,,,。

本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证

。

2规范性引用文件

本文件没有规范性引用文件

。

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件

。

31

.

磁控溅射magnetronsputtering

利用电场和磁场束缚等离子体并通过来自等离子体的高能量离子将靶材原子撞击出来的技术

,。

注该技术具有沉积速度高基片温升低和薄膜损伤小的优点

:、。

32

.

薄膜thinfilms

一般按是否可以独立存在分为两种本文件所述的是可以依附于其他物体表面的二维体系其厚度

,,

通常为纳米量级

。

33

.

真空镀膜vacuumcoating

通过真空泵使封闭腔体达到真空状态而后将膜材气化并沉积到固体衬底上形成薄膜的技术

,。

34

.

真空度vacuumdegree

低于一个大气压的气体状态与大气状态相比分子的密度较为稀薄分子之间碰撞的几率更

。,,

低气体分子从一次碰撞到下一次碰撞所飞行的距离即分子的平均自由程更长

,,。

35

.

磁控溅射阴极magnetronsputteringcathode

是磁控溅射设备的重要配件内置磁铁组件水冷组件馈电组件绝缘组件和靶材固定组件等

。、、、。

注也称靶枪

:。

36

.

磁隧道结magnetictunneljunctionMTJ

;

为磁随机存储器的基本存储单元它的核心部分是由两个铁磁金属层夹着一个隧穿势垒层而形成

。

的三明治结构

。

37

.

隧穿势垒层tunnelbarrier

磁隧道结中两层铁磁层中间的由金属氧化物等绝缘体材料形成的薄膜层

。

1