GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
GB/T 28274-2012 Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design
国家标准
中文简体
现行
页数：11页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2012-05-11
实施日期
2012-12-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
适用范围
本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。
本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
发布历史
-
2012年05月
研制信息
- 起草单位：
- 北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学
- 起草人：
- 张大成、王玮、刘伟、杨芳、姜森林、崔波、熊斌、乔大勇
- 出版信息：
- 页数：11页 | 字数：19 千字 | 开本： 大16开
内容描述
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