GB/T 14849.1-2007 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法
GB/T 14849.1-2007 Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 1:Determination of iron content—1,10-Phenanthrolion spectrophotometric method
基本信息
标准号
GB/T 14849.1-2007
标准类型
国家标准
标准状态
被代替
发布日期
2007-10-25
实施日期
2008-04-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
本部分规定了工业硅中铁含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中铁含量的测定。测定范围(质量分数):0.10%~0.65%。
本部分适用于工业硅中铁含量的测定。测定范围(质量分数):0.10%~0.65%。
发布历史
-
1993年12月
-
2007年10月
-
2020年03月
研制信息
- 起草单位:
- 抚顺铝业有限公司
- 起草人:
- 杨丽梅、杨宇宏、徐铁铃、计春雷
- 出版信息:
- 页数:5页 | 字数:8 千字 | 开本: 大16开
内容描述
犐犆犛77.120.10
犎12
中华人民共和国国家标准
/—
犌犅犜14849.12007
代替/—
GBT14849.11993
工业硅化学分析方法
第部分:铁含量的测定
1
国家标准ㅤ可打印ㅤ可复制ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页
,二氮杂菲分光光度法
110
—
犕犲狋犺狅犱狊犳狅狉犮犺犲犿犻犮犪犾犪狀犪犾狊犻狊狅犳狊犻犾犻犮狅狀犿犲狋犪犾
狔
:—
犘犪狉狋1犇犲狋犲狉犿犻狀犪狋犻狅狀狅犳犻狉狅狀犮狅狀狋犲狀狋
,
110犘犺犲狀犪狀狋犺狉狅犾犻狅狀狊犲犮狋狉狅犺狅狋狅犿犲狋狉犻犮犿犲狋犺狅犱
狆狆
20071025发布20080401实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
犌犅犜14849.12007
前言
GBT14849/《工业硅化学分析方法》分为四部分:
———第部分:铁含量的测定,二氮杂菲分光光度法
1110
———第部分:铝含量的测定铬天青分光光度法
2S
———第部分:钙含量的测定3
———第部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量4
本部分为GBT14849/的第部分。1
本部分代替/—《工业硅化学分析方法,二氮杂菲分光光度法测定铁量》。
GBT14849.11993110
与/—相比,主要变化如下:
GBT14849.11993
———增加了“重复性”和“质量保证与控制”条款。
国家标准ㅤ可打印ㅤ可复制ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页
Ⅰ
/—
犌犅犜14849.12007
工业硅化学分析方法
第部分:铁含量的测定
1
,二氮杂菲分光光度法
110
1范围
本部分规定了
定制服务
推荐标准
- GB/T 15766.3-2000 道路机动车辆灯丝灯泡 辅助用灯泡 2000-10-17
- GB/T 17553.2-2000 识别卡 无触点集成电路卡 第2部分:耦合区域的尺寸和位置 2000-10-17
- GB/T 18207.1-2000 防震减灾术语 第1部分:基本术语 2000-10-17
- GB/T 17553.3-2000 识别卡 无触点集成电路卡 第3部分:电信号和复位规程 2000-10-17
- GB/T 16915.3-2000 家用和类似用途固定式电气装置的开关 第2部分:特殊要求 第2节:遥控开关(RCS) 2000-10-17
- GB/T 15766.2-2000 道路机动车辆灯丝灯泡 性能要求 2000-10-17
- GB/T 18210-2000 晶体硅光伏(PV)方阵I-V特性的现场测量 2000-10-17
- GB/T 14805.4-2000 用于行政、商业和运输业电子数据交换的应用级语法规则(语法版本号:4) 第4部分:批式电子数据交换语法和服务报告报文(报文类型为CONTRL) 2000-10-17
- GB/T 18208.3-2000 地震现场工作 第三部分:调查规范 2000-10-17
- GB/T 16649.7-2000 识别卡 带触点的集成电路卡 第7部分:用于结构化卡查询语言(SCQL)的行业间命令 2000-10-17