GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
GB/T 14849.4-2008 Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
被代替
发布日期
2008-06-09
实施日期
2008-12-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定，测定范围见表1。
发布历史
-
2008年06月
-
2014年12月
研制信息
- 起草单位：
- 中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所
- 起草人：
- 李跃平、石磊、张树朝、张洁、吴豫强、周兵、姜伟、金建华、刘双庆、牟利娟、张艾芬
- 出版信息：
- 页数：6页 | 字数：9 千字 | 开本： 大16开
内容描述
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中华人民共和国国家标准
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工业硅化学分析方法
第部分：电感耦合等离子体原子
４
发射光谱法测定元素含量
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２００８０６０９发布２００８１２０１实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
中华人民共和国
国家标准
工业硅化学分析方法
第部分：电感耦合等离子体原子
４
发射光谱法测定元素含量
／—
ＧＢＴ１４８４９．４２００８
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