GB/T 23414-2026 微束分析 扫描电子显微术 术语
GB/T 23414-2026 Microbeam analysis—Scanning electron microscopy—Vocabulary
基本信息
本文件适用于所有有关SEM实际应用中的标准化文件。另外,本文件的某些术语,也适用于相关领域的文件[例如:电子探针显微分析(EPMA)、分析电子显微术(AEM)、能谱法(EDX)等]。
发布历史
-
2009年04月
-
2026年01月
文前页预览
研制信息
- 起草单位:
- 中国科学院上海硅酸盐研究所
- 起草人:
- 李香庭、曾毅
- 出版信息:
- 页数:36页 | 字数:58 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS370200104037
;
CCSN.33..
中华人民共和国国家标准
GB/T23414—2026/ISO224932014
:
代替GB/T23414—2009
微束分析扫描电子显微术术语
Microbeamanalysis—Scanningelectronmicroscopy—Vocabulary
ISO224932014IDT
(:,)
2026-01-28发布2026-08-01实施
国家市场监督管理总局发布
国家标准化管理委员会
GB/T23414—2026/ISO224932014
:
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范围
1………………………1
规范性引用文件
2…………………………1
缩略语
3……………………1
物理基础术语和定义
4SEM………………1
仪器术语和定义
5SEM……………………5
成像和图像处理的术语和定义
6SEM…………………11
图像诠释和分析的术语和定义
7SEM…………………15
图像放大倍率和分辨率校正及测量的术语和定义
8SEM……………17
参考文献
……………………19
索引
…………………………20
Ⅰ
GB/T23414—2026/ISO224932014
:
前言
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规
GB/T1.1—2020《1:》
定起草
。
本文件代替微束分析扫描电子显微术术语与相
GB/T23414—2009《》,GB/T23414—2009
比除结构调整和编辑性改动外主要技术变化如下
,,:
更改了缩略语的释义见第章年版的第章
a)“EDS”(3,20092);
更改了场发射术语的定义见年版的
b)“”(4.1.2.1,20093.1.2.1);
更改了蒙特卡罗模拟术语的定义见年版的
c)“”(4.5.5,20093.5.5);
更改了电子背散射衍射术语的定义见年版的
d)“(EBSD)”(4.7.1,20093.7.1);
更改了像散术语的定义见年版的
e)“”(5.2.3,20094.2.3);
更改了聚光镜术语的定义见年版的
f)“”(5.2.4,20094.2.4);
删除了可变气压扫描电镜和环境扫描电镜的独立术语条目见年
g)“(VPSEM)”“(ESEM)”(2009
版的其相关概念已整合至可控气压见
4.4.3、4.4.4),“SEM”(5.4.5);
将气体二次电子探测器与环境探测器术语整合后更改了定义见年版的
h)“”“SE”(5.6.2.6,2009
和
4.6.2.84.6.2.6);
更改了像素术语的定义见年版的
i)“”(6.2.4,20095.2.4);
增加了像素尺寸的术语和定义见
j)“”(6.2.5);
增加了表面倾斜衬度的术语和定义见
k)“”(6.3.9.1);
增加了边缘效应的术语和定义见
l)“”(6.3.11);
更改了猝灭术语的定义见年版的
m)“”(7.6.10,20096.6.10);
更改了边缘宽化术语的定义见年版的
n)“”(8.3.2,20097.3.2);
增加了二值化图像的术语和定义见
o)“SEM”(8.4)。
本文件等同采用微束分析扫描电子显微术术语
ISO22493:2014《》。
本文件增加规范性引用文件一章
“”。
本文件做了下列最小限度的编辑性改动
:
增加了缩略语见第章
———“EDX”(3);
增加了的注见
———8.1(8.1);
增加了的注见
———8.3(8.3);
增加了索引
———。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
。。
本文件由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口
(SAC/TC38)。
本文件起草单位中国科学院上海硅酸盐研究所
:。
本文件主要起草人李香庭曾毅
:、。
本文件于年首次发布本次为第一次修订
2009,。
Ⅲ
GB/T23414—2026/ISO224932014
:
引言
扫描电子显微术技术用于观察和表征金属合金陶瓷玻璃矿物聚合物和粉体等固体材
(SEM)、、、、、
料在微米纳米范围内的形貌和结构另外应用聚焦离子束与扫描电镜分析技术能重构三维结构
-。,。
技术是基于电子光学电子散射和二次电子发射的物理机制
SEM、。
技术是微束分析的一个主要分支已广泛应用于高技术工业基础工业冶金和地质
SEM(MBA),、、、
生物和医药环境保护和商贸等领域各技术领域的术语标准化是该领域标准化发展的先决条件之一
、。。
Ⅳ
GB/T23414—2026/ISO224932014
:
微束分析扫描电子显微术术语
1范围
本文件界定了扫描电子显微术在实际应用中使用的术语包括基础术语和按不同技术内
(SEM)。
容分类的术语也包括已经在中定义的术语
,ISO23833。
本文件适用于所有有关实际应用中的标准化文件另外本文件的某些术语也适用于相关
SEM。,,
领域的文件例如电子探针显微分析分析电子显微术能谱法等
[:(EPMA)、(AEM)、(EDX)]。
2规范性引用文件
本文件没有规范性引用文件
。
3缩略语
分析电子显微术分析电子显微镜
AEM:/(analyticalelectronmicroscopy/microscope)
背散射电子
BSE(BE):(backscatteredelectron)
可控气压扫描电镜
CPSEM:(controlledpressurescanningelectronmicroscope)
阴极射线管
CRT:(cathoderaytube)
电子束感生电流
EBIC:(electronbeaminducedcurrent)
电子背散射衍射
EBSD:(electronbackscatter/backscatteringdiffraction)
能谱仪
EDS:(energy-dispersivespectrometer)
能谱法
EDX:(energy-dispersiveX-rayspectrometry)
电子探针显微分析电子探针仪
EPMA:/(electronprobemicroanalysis/analyzer)
环境扫描电镜环境扫描电子显微术
ESEM:/(environmentalscanningelectronmicroscope/mi-
croscopy)
谱峰半高宽
FWHM:(fullwidthathalfmaximum)
二次电子
SE:(secondaryelectron)
扫描电镜扫描电子显微术
SEM:/(scanningelectronmicroscope/microscopy)
可变气压扫描电镜可变气压扫描电子显微术
VPSEM:/(variable-pressurescanningelectronmi-
croscope/microscopy)
4SEM物理基础术语和定义
41
.
电子光学electronoptics
有关电子通过静电场和或电磁场运动的科学
/。
411
..
电子源electronsource
电子光学系统中形成电子束所需的电子发射装置
,。
1
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