GB/T 1558-2009 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
GB/T 1558-2009 Test method for substitutional atomic carbon concent of silicon by infrared absorption
基本信息
本标准适用于电阻率高于3 Ω·cm的p型硅片及电阻率高于1 Ω·cm的n型硅片中代位碳原子含量的测定,对于精密度要求不高的硅片,可以测量电阻率大于0.1 Ω·cm的硅片中代位碳原子含量。由于碳也可能存在于间隙位置,因而本方法不能测定总碳含量。
本标准也适用于硅多晶中代位碳原子含量的测定,但其晶粒界间区的碳同样不能测定。
本标准测量的碳原子含量的有效范围:室温下从硅中代位碳原子含量5×1015 at·cm-3 (0.1 ppma)到碳原子的最大溶解度,77 K时检测下限为5×1014 at·cm-3 (0.01 ppma)。
发布历史
-
1997年12月
-
2009年10月
-
2023年12月
研制信息
- 起草单位:
- 信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所、峨嵋半导体材料厂
- 起草人:
- 何秀坤、李静、段曙光、梁洪
- 出版信息:
- 页数:7页 | 字数:10 千字 | 开本: 大16开
内容描述
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犎80
中华人民共和国国家标准
/—
犌犅犜15582009
代替/—1997
GBT1558
硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
犜犲狊狋犿犲狋犺狅犱犳狅狉狊狌犫狊狋犻狋狌狋犻狅狀犪犾犪狋狅犿犻犮犮犪狉犫狅狀犮狅狀犮犲狀狋狅犳
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狔国家标准ㅤ可打印ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页狆
20091030发布20100601实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
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犌犅犜15582009
前言
本标准修改采用SEMIMF13910704《硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法》。
本标准与SEMIMF13910704的主要差异如下:
———本标准在结构上主要依照我国国标编制格式,与SEMIMF13910704有所不同;
———本标准未引用“偏差”、“关键词”两章内容。
本标准代替/—《硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法》。
GBT15581997
本标准与原标准相比主要有以下变化:
———对测量的碳原子含量有效范围进行了修改,室温下从硅中代位碳原子含量15·-3
5×10atcm
14-3
()到碳原子的最大溶解度,时检测下限为·();
0.1ppma77K5×10atcm0.01ppma
———补充了“术语”、“干扰因素”“报告”三章;
———在“操作步骤”中增加了“仪器检查”内容。
国家标准ㅤ可打印ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页
Ⅰ
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犌犅犜15582009
硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
1范围
本标准规定了硅中代位碳原子含量的红外吸收测量方法。
本标准适用于电阻率高于·的型硅片及电阻率高于·的型硅片中代位碳原子
3cm1cmn
ΩpΩ
含量的测定,对于精密度要求不高的硅片,可以测量电阻率大于·的硅片中代位碳原子含量。
0.1Ωcm
由于碳也可能存在于间隙位置,因而本方法不能测定总碳含量。
本标准也适用于硅多晶中代位碳原子含量的测定,但其晶粒界间区的碳同样不能测定。
本标准测量的碳原子含量的有效范围:室温下从硅中代位碳原子含量15·-3
5×10atcm
14-3
()到碳原子的最大溶解度,时检测下限为·()。
0.1ppma77K5×10atcm0.01ppma
2规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有
的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GBT6618/硅片厚度和总厚度变化测试方法
GBT14264/半导体材料术语
3术语和定义国家标准ㅤ可打印ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页
GBT14264/确立的以及下列术语和定义适用于本标准。
3.1
背景光谱犫犪犮犽狉狅狌狀犱狊犲犮狋狉狌犿
犵狆
在红外光谱仪中,无样品存在的情况下使用单光束测量获得的谱线,通常包括氮气,空气等信息。
3.2
基线犫犪狊犲犾犻狀犲
从测量图谱中碳峰的两侧最小吸光度处作出的一条切线,用来计算吸收系数α,如图所示。1
3.3
基线吸收犫犪狊犲犾犻狀犲犪犫狊狅狉犫犪狀犮犲
与计算吸收峰高度的碳峰相对应波数处的基线值。
3.4
傅里叶变换
定制服务
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