适用范围：本文件描述了测量多层镍电镀层体系中各镍镀层厚度和层间电位差的方法。 本文件适用于多层镍电镀层的测量。 本文件不适用于多层镍电镀层以外的涂层或层系的测量。

适用范围：本文件规定了金属基体上工程用铜电镀层的标识、要求、试验方法及抽样检验。 本文件适用于工程用途的铜电镀层，如在热处理零件表面起阻挡作用的铜电镀层，钢管焊接时起钎焊作用的铜电镀层，拉拔加工起减磨作用的铜电镀层，作镀锡底层防止基体金属扩散的铜电镀层，用于电子电路中的电磁干扰（EMI）屏蔽的铜电镀层以及接插件的铜电镀层。 本文件不适用于装饰性用途的铜电镀层（面镀层）和作为其他装饰性镀层的底层的铜电镀层，也不适用于电铸铜。

适用范围：本文件描述了利用振幅敏感涡流仪对非磁性导电基体金属上的非导电覆盖层厚度进行无损测量的方法。 在本文件中，术语“覆盖层”适用于诸如色漆和清漆、电镀层、搪瓷涂层、塑料涂层、包覆层和粉末涂层等材料。本文件适用于大多数阳极氧化膜厚度的测量，对于一些厚度过薄的转化膜层，该方法不适用（见第6章）。本文件还能用于非导电基材上的非磁性金属覆盖层厚度的测量。然而，GB/T 31554规定的相敏涡流法尤其适用于该应用，并且能提供更高精度的厚度测量结果（见附录A）。 本文件不适用于测量导电基体金属上的非磁性金属覆盖层。GB/T 31554规定的相敏涡流法特别适用于此应用。但是，在电导率非常小的超薄涂层的特殊情况下，振幅敏感涡流法也能用于此应用（见附录A）。 虽然该方法能够用于测量磁性基体金属上的覆盖层厚度，但该应用不推荐。在这种情况下，使用GB/T 4956规定的磁性测厚方法。只有在覆盖层厚度超过约1 mm时，振幅敏感涡流法也能用于此应用（见附录A）。

适用范围：本文件规定了由电镀、自催化沉积或其他工艺所制备厚度不超过200 μm的金属覆盖层延展性的一般测量方法。 本文件适用于以下方法： --用去除基体的覆盖层箔片进行试验（从基体上剥离的金属覆盖层）； --在有基体的覆盖层上进行试验。 本文件不适用于某些涂层特定的标准方法。在某些情况下，特定的方法优先于本文件中所描述的方法，并由供需双方事先商定。

适用范围：本文件描述了磁性基体上非磁性覆盖层厚度的一种无损测量方法。 本测量方法对典型覆盖层是可接触、非破坏性的。探头或带有集成探头的仪器直接放置在待测覆盖层上。覆盖层厚度在仪器上显示。 本文件适用于油漆和清漆、电镀层、搪瓷涂层、塑料涂层、粉末涂层、包覆层的厚度测量。 注：本方法还用于测量非磁性基体金属或者其他材料（见GB/T 13744）上的磁性覆盖层的测量。

适用范围：本文件描述了一种通过在覆盖层表面和基体金属表面之间形成台阶，再应用轮廓记录仪测量台阶高度来确定金属覆盖层厚度的方法，并规定了仪器的特性以及轮廓仪法的特殊测量规程。 本文件适用于测量平整表面上厚度为0.01 μm~1 000 μm的金属覆盖层，如果采用适当措施，也能测量圆柱表面金属覆盖层的厚度。本文件也适用于覆盖层标准片厚度的测量。 本文件不适用于小于0.01 μm且工作表面平直度、平滑度较低的微小覆盖层厚度的测量。

适用范围：本文件评述了已发表的显示覆盖层中孔隙（见GB/T 3138)和不连续的方法。 本文件适用于铝、阳极氧化铝、黄铜、镉、铬、钴、铜、金、铟、铅、镍、镍-硼、镍-钴、镍-铁、镍-磷、钯、铂、釉瓷或搪瓷、铑、银、锡、锡-铅、锡-镍、锡-锌、锌等覆盖层以及铝、铍-铜、黄铜、铜、铁、镍铁钴合金、镁、镍、镍-硼、镍-磷、磷-青铜、银、钢、锡-镍和锌合金基体金属上的铬酸盐转化膜、磷酸盐转化膜、氟锆转化膜、钛锆转化膜,其他转化膜参照使用(包括有关的有机膜)。 本文件所述的测试方法通过与覆盖层不连续处暴露的基体反应，从而形成可观察到的反应产物。 注1：孔隙一般都垂直于覆盖层表面，但也可能倾斜于覆盖层表面；它们往往呈圆柱形，也可能呈扭曲形，见附录A。 注2：孔隙尺寸各不相同,从亚微观,即在普通显微镜下不可见；到微观，即放大10倍到1 000倍可见；到宏观,即肉眼可见。 注3： 孔隙可以通过覆盖层表面的变色明显地显示出来。 注4： 覆盖层中的孔隙并非总是有害的。例如，在不连续铬中，微孔铬或者微裂纹铬是有益的，在测试时要导电以显示孔隙。 注5： 孔隙率试验的结果以每平方厘米的孔隙数来表示，是与测试时所用的特定试验方法和检查中所用的放大倍数有关的相对值。附录B给出了典型的报告和评价。

适用范围：本文件规定了含镍、钴或铁的锌合金电镀层的要求，包括标识、铬酸盐钝化层和其他镀后处理的方法。 本文件适用于含镍、钴或铁的锌合金电镀层。

适用范围：本文件规定了钢铁上经过处理的锌电镀层的要求，包含需方向供方提供的资料和电镀前、后热处理的要求。本文件没有对电镀锌前基体金属的表面状态进行规定，但基体金属表面的缺陷会对外观和膜层性能产生不利影响。本文件适用于钢铁上经过处理的锌电镀层。本文件不适用于：--未加工成型的钢铁板材、带材和线材的锌电镀层；--密绕弹簧的锌电镀层；--非防护装饰性用途的锌电镀层。螺纹件上电镀层的厚度可通过螺纹等级或装配尺寸要求加以限定。

适用范围：本文件评述了检查电沉积和化学沉积覆盖层附着强度的试验方法，这些试验方法仅限于定性试验。 本文件适用于金属基体上电沉积和化学沉积覆盖层附着强度试验方法的选择。 本文件未描述不同时期制定的金属覆盖层与基体附着强度的一些定量试验方法。因为此类试验在操作中需要特殊的设备和相当熟练的技能，不适合作为产品零件的质量控制试验，但某些定量试验方法对研发工作能够发挥作用。

适用范围：本文件规定了铝及铝合金硬质阳极氧化膜的要求,描述了铝及铝合金硬质阳极氧化膜的试验方法。 本文件还规定了需方应向供方提供的信息(见附录A)。 本文件适用于铝及铝合金硬质阳极氧化膜，本文件不适用于等离子体电解氧化、微弧氧化、等离子体化学阳极氧化、阳极火花沉积或火花阳极氧化等工艺生产的膜层。

适用范围：本文件规定了以防腐蚀和防磨损为目的，用渗锌工艺制备的六个等级的锌扩散层的最低厚度要求。 本文件对渗锌处理前基体材料的表面状况（光洁度或粗糙度）不做任何要求。 本文件对渗锌工件的后处理（转化膜）、补充处理或有机涂层（适用于复合涂层体系）未做规定。 注1：有关渗锌后处理的一般信息，见附录A和附录B。 本文件适用于钢铁制件表面的锌扩散层渗锌层，不适用于有相应文件规范且其文件中含有更多的或不同于本文件所述要求的渗锌产品（如紧固件、管件）。 注2：某些产品的防腐层技术规范可引用本文件编号，或引用本文件进行修订。

适用范围：本文件规定了黑色和有色金属基体上电沉积工程用镍陶瓷复合镀层的要求，描述了电沉积镍陶瓷颗粒复合镀层的制备方法。 本文件适用于工程应用的镍基复合镀层。 本文件不适用于镍体积分数小于40%的合金或复合材料。

适用范围：本文件描述了常用的物理气相沉积(PVD)法制备的多层硬质涂层的成分、结构和性能的评价方法。本文件适用于利用真空沉积法如蒸发、溅射或相关的非化学方法制备产生的涂层材料。

适用范围：本文件规定了从溶液镀覆到金属及非金属基材上的化学镀镍磷-陶瓷复合镀层的要求。 本文件适用于金属及非金属基材上的化学镀镍磷陶瓷复合镀层。本文件不适用于三元镍合金和镍硼陶瓷复合镀层。

适用范围：本文件描述了基于大气环境腐蚀试验及数据绘制区域性大气腐蚀图的方法，包括一般规定、绘制流程、绘图数据准备、地理空间插值模型构建、数据源空白区域赋值、图面绘制、图面输出、编制绘制说明。 本文件适用于以金属材料腐蚀速率评价大气腐蚀性进而绘制的大气腐蚀图。 注：本文件所述金属材料是指金属、合金和金属类覆盖层。

适用范围：本文件规定了锡含量（质量分数）为75%～80%、其余为钴的锡钴合金电镀层的标识和要求。锡钴合金镀层可作为厚度为0.1 μm～0.3 μm装饰性铬镀层的替代镀层，其硬度和耐磨性不同于铬镀层，而与锡镍合金镀层相近。本文件适用于滚镀和挂镀锡含量（质量分数）为75%～80%、其余为钴的锡钴合金电镀层。 本文件没有规定电镀前基体金属表面状态的要求。

适用范围：本文件规定了利用亚硫酸/二氧化硫蒸气测定金或钯镀层孔隙率的设备和方法，特别是用于测定电触头上的电镀层和包金层孔隙率的设备与方法。本文件不适用于孔隙率具体数值的符合性判定。本文件不适用于通过孔隙的位置和腐蚀产物来预测镀层触点的电性能。本文件适用于定量描述孔隙率小于100 /cm2的金或钯镀层。本文件适用于定性描述与比较孔隙率大于或等于100 /cm2的金或钯镀层。

适用范围：本文件规定了在钢、铁及其他基体金属上物理气相沉积高纯度镉涂层的技术要求。本文件描述了涂层性能要求的试验方法，以及镉涂层、铬酸盐转化膜和其他后续处理的标识方法。 镉涂层不适用于使用过程中温度达到225 ℃以上产品零(部)件的处理，或是能接触到达到该温度其他零(部)件的情况。

适用范围：本文件规定了钢铁表面无六价铬钝化处理的锌和锌合金电镀层体系的标识以及在规定的测试条件下要求达到的最低耐蚀性和最小镀层厚度。锌合金电镀层中含有镍或铁合金元素，分别被称为锌镍合金电镀层或锌铁合金电镀层。本文件适用于钢铁表面无六价铬钝化处理的锌和锌合金电镀层。电镀层或镀层体系的主要目的是保护钢铁零部件免受腐蚀。