GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
GB/T 34893-2017 Micro-electromechanical system technology—Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
国家标准
中文简体
现行
页数：9页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2017-11-01
实施日期
2018-05-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
适用范围
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%，宽深比不低于1∶10，且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。
发布历史
-
2017年11月
研制信息
- 起草单位：
- 天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学中国电子科技集团公司第十三研究所
- 起草人：
- 胡晓东、郭彤、于振毅、李海斌、程红兵、裘安萍、崔波、朱悦
- 出版信息：
- 页数：9页 | 字数：14 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS31.200
L55
中华人民共和国国家标准
/—
GBT348932017
微机电系统()技术
MEMS
基于光学干涉的MEMS微结构
面内长度测量方法
Micro-electromechanicalsstemtechnolo—
ygy
Measurinmethodforin-lanelenthmeasurementsofMEMSmicrostructures
gpg
usinanoticalinterferometer
gp
2017-11-01发布2018-05-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT348932017
目次
前言…………………………Ⅰ
1范围………………………1
2规范性引用文件…………………………1
3术语和定义………………1
4测量方法………………
定制服务
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