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GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法

GB/T 34893-2017 Micro-electromechanical system technology—Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer

国家标准 中文简体 现行 页数：9页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 34893-2017
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
L55/59 微电路
国际标准分类号（ICS）
31.200 集成电路、微电子学
发布日期
2017-11-01
实施日期
2018-05-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
适用范围
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%，宽深比不低于1∶10，且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。

发布历史

文前页预览

GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法-第1页
GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法-第2页
GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法-第3页
GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法-第4页

研制信息

起草单位：
天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学中国电子科技集团公司第十三研究所
起草人：
胡晓东、郭彤、于振毅、李海斌、程红兵、裘安萍、崔波、朱悦
出版信息：
页数：9页 | 字数：14 千字 | 开本： 大16开

内容描述

ICS31.200

L55

中华人民共和国国家标准

/—

GBT348932017

微机电系统()技术

MEMS

基于光学干涉的MEMS微结构

面内长度测量方法

Micro-electromechanicalsstemtechnolo—

ygy

Measurinmethodforin-lanelenthmeasurementsofMEMSmicrostructures

gpg

usinanoticalinterferometer

gp

2017-11-01发布2018-05-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

/—

GBT348932017

目次

前言…………………………Ⅰ

1范围………………………1

2规范性引用文件…………………………1

3术语和定义………………1

4测量方法………………

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