GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

GB/T 42789-2023 Test method for gloss of silicon wafer

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基本信息

标准号

GB/T 42789-2023

相关服务

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标准类型

国家标准

标准状态

现行

中国标准分类号（CCS）

H21 金属物理性能试验方法

国际标准分类号（ICS）

77.040 金属材料试验

发布日期

2023-08-06

实施日期

2024-03-01

发布单位/组织

国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会

归口单位

全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)

适用范围

本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。
本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有图形的硅片的测试。

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发布历史

2023年08月

GB/T 42789-2023　硅片表面光泽度的测试方法

当前标准现行 2023-08-06

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研制信息

起草单位：: 浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技(衢州)有限公司