GB/T 30652-2014 硅外延用三氯氢硅
GB/T 30652-2014 Trichlorosilane for silicon epitaxial
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
被代替
发布日期
2014-12-31
实施日期
2015-09-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本标准规定了硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书以及订货单 (或合同)内容。
本标准适用于以粗三氯氢硅为原料经过提纯而制得的硅外延用三氯氢硅（以下简称产品）。
本标准适用于以粗三氯氢硅为原料经过提纯而制得的硅外延用三氯氢硅（以下简称产品）。
发布历史
-
2014年12月
-
2023年08月
研制信息
- 起草单位：
- 中锗科技有限公司、南京国盛电子有限公司、南京中锗科技股份有限公司
- 起草人：
- 柯尊斌、刘新军、郑华荣、谭卫东、金龙
- 出版信息：
- 页数：5页 | 字数：6 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS29.045
H83
中华人民共和国国家标准
/—
GBT306522014
硅外延用三氯氢硅
Trichlorosilaneforsiliconeitaxial
p
2014-12-31发布2015-09-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT306522014
前言
本标准按照/—给出的规则起草。
GBT1.12009
。。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/
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