GB/T 30652-2023 硅外延用三氯氢硅
GB/T 30652-2023 Trichlorosilane for silicon epitaxial
国家标准
中文简体
现行
页数：9页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 30652-2023
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2023-08-06
实施日期
2024-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本文件规定了硅外延用三氯氢硅（SiHCl 3）的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。
本文件适用于以三氯氢硅为原料精制提纯而制得的硅外延用三氯氢硅（以下简称产品）。
本文件适用于以三氯氢硅为原料精制提纯而制得的硅外延用三氯氢硅（以下简称产品）。
发布历史
-
2014年12月
-
2023年08月
研制信息
- 起草单位：
- 洛阳中硅高科技有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、上海亿钶气体有限公司、南京国盛电子有限公司、唐山三孚电子材料有限公司、上海新昇半导体科技有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、武汉新硅科技潜江有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、中电晶华(天津)半导体材料有限公司、昊华气体有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、青海中航硅材料有限公司、沁阳国顺硅源光电气体有限公司、江西晨光新材料股份有限公司
- 起草人：
- 万烨、赵雄、严大洲、刘见华、张园园、李素青、李建新、李飞明、冯永平、孙任靖、张斌、顾广安、于生海、邓远红、徐岩、李楷东、刘文明、李明达、付梦月、邱艳梅、边红利、史隽涛、梁秋鸿
- 出版信息：
- 页数：9页 | 字数：19 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS29.045
CCSH83
中华人民共和国国家标准
/—
GBT306522023
代替/—
GBT306522014
硅外延用三氯氢硅
Trichlorosilaneforsiliconeitaxial
p
2023-08-06发布2024-03-01实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
/—
GBT306522023
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
/—《》,/—,
本文件代替GBT306522014硅外延用三氯氢硅与GBT306522014相比除结构调整和
,:
编辑性改动外主要技术变化如下
)(,);
更改了适用范围见第章年版的第章
a120141
)();
增加了术语和定义一章见第章
b3
)(,);
c更改了部分技术指标要求见4.12014年版的3.2
)(,);
增加了部分项目的试验方法见第章年版的第章
d52014
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