YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

ICS77.150.99

H68

中华人民共和国有色金属行业标准

/—

YST9352013

电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级

及杂质含量分析和报告标准指南

ㅤㅤㅤㅤ

Standarduideforanalsisandreortintheimuritcontentandradeofhih

gypgpygg

uritmetallicsutterintaretsforelectronicthinfilmalications

pypggpp

2013-10-17发布2014-03-01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

/—

YST9352013

电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级

及杂质含量分析和报告标准指南

1范围

、、

本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法杂质含量分析方法抽样

规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。

()。

本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材以下简称靶材其他对纯度有较高要求的靶材

、。

纯度等级杂质含量分析及报告规范也可参照使用

2规范性引用文件

。,

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,()。

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

/、、、

GBT14265金属材料中氢氧氮碳和硫分析方法通则

/()

GBT20975所有部分铝及铝合金化学分析方法

/电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

GBT29658

/高纯铝化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法

YST871ㅤㅤㅤㅤ

/高纯铜化学分析方法痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法

YST922

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

靶材taret

g

(),。

物理气相沉积PVD工艺中用于溅射的阴极部分本标准中指加工后待用的靶材

3.2

原材料批materiallotbatch

制造同批系列靶材所用的原材料锭批。

3.3

靶材规范taretsecification

gp

电子薄膜用溅射靶材的产品规范。

4要求

4.1成分要求

,。

电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材因用途不一对不同材质靶材的纯度要求也不一致靶材成分

,,:

要求一般包含金属杂质和非金属杂质检测要求如下