GB/T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

GB/T 35309-2017 Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies

国家标准 中文简体 现行 页数:8页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 35309-2017
相关服务
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
国际标准分类号(ICS)
发布日期
2017-12-29
实施日期
2018-07-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主杂质浓度的方法。本标准适用于尺寸为600 μm~3 000 μm的颗粒状多晶硅,其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照本标准执行。

发布历史

研制信息

起草单位:
江苏中能硅业科技发展有限公司、新特能源股份有限公司、天津市环欧半导体材料技术有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、洛阳中硅高科技有限公司
起草人:
王桃霞、刘晓霞、耿全荣、鲁文锋、柳德发、胡伟、邱艳梅、银波、由佰玲、秦榕、严大洲
出版信息:
页数:8页 | 字数:14 千字 | 开本: 大16开

内容描述

ICS77.040

H17

中华人民共和国国家标准

/—

GBT353092017

用区熔法和光谱分析法评价

颗粒状多晶硅的规程

Practiceforevaluationofranularolsiliconb

gpyy

melter-zonerandsectroscoies

pp

2017-12-29发布2018-07-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

/—

GBT353092017

前言

本标准按照/—给出的规则起草的。

GBT1.12009

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)与全国半导体设备和材料标准

SACTC20

定制服务

    推荐标准

    关联标准

    相似标准推荐

    更多>