适用范围：本标准规定了采用电子显微镜高角环形暗场成像技术对贵金属纳米颗粒成像的方法。本标准适用于单一贵金属纳米颗粒和复合材料中贵金属纳米颗粒的成像。

适用范围：本标准规定了利用SEM和EDX分析单壁碳纳米管粗产品及纯化后粉末或薄膜产品的形态、元素组成、催化剂和其他无机杂质的测试方法。 本标准适用于单壁碳纳米管的特性分析，亦可用于多壁碳纳米管（multiwall carbon nanotubes，简称MWCNTs）的特性分析。

适用范围：本标准规定了航天器发射平台基准信息的测量中使用的方位垂直传递装置的通用技术要求、检验规则、交货准备要求以及主要性能检验方法。 本标准适用于航天器发射平台基准信息的测量中使用的方位垂直传递装置的设计、生产、试验和验收。

适用范围：本标准规定了飞行器靶场跟踪测试试验中使用的光电跟踪测量设备的通用技术要求、检验规则、交货准备要求以及主要性能试验方法。 本标准适用于飞行器靶场跟踪测试试验中使用的光电跟踪测量设备的设计、生产、试验和验收。 注： 在本标准中不发生歧义的情况下光电跟踪测量设备简写为设备。

适用范围：本标准规定了单壁碳纳米管的透射电子显微术表征形貌的方法，及识别单壁碳纳米管样品中其他材料元素组成的能谱法。 本标准适用于检测单壁碳纳米管的基本结构，包括形貌、缺陷、直径分布、管束大小和取向、结晶情况，以及元素组分和手性分析等。

适用范围：本标准规定了太阳光度计的校正项目及技术要求、校正条件、方法原理、测量步骤、数据处理以及记录和报告等内容。 本标准适用于太阳光度计对大气上界太阳辐照度对应电压响应值的校正。

适用范围：本标准规定了以电子束为激发源的俄歇电子能谱（AES，Auger Electron Spectroscopy）的一般表面分析方法。 本标准适用于俄歇电子能谱仪。

适用范围：本标准定义了扫描电子显微术（SEM）实践中使用的术语。包括一般术语和按技术分类的具体概念的术语，也包括已经在ISO 23833中定义的术语。 本标准适用于所有有关SEM实践的标准化文件。另外，本标准的某些术语定义，也适用于相关领域的文件〔例如：电子探针显微分析（EPMA）、分析电子显微术（AEM）、能谱法（EDX）等〕。

适用范围：本标准详细说明了永久和临时(例如维修时)用来围封激光加工机工作区域的激光防护屏以及专用激光防护屏的要求。 本标准适用于包括目视透明屏及视窗、平板、激光帘和壁在内的一个防护屏的全部组件。对光路组件、快门和不完全围封加工区的激光产品防护罩的要求包含在GB 7247.1中。

适用范围：本标准规定了用电子探针测定碳钢和低合金钢（其他合金元素质量分数小于2%）中碳含量的校正曲线法。本标准包含试样制备、X射线检测、校正曲线建立以及碳含量检测不确定度的评估。本标准适用于测定碳的质量分数小于1%的钢中碳含量，当含碳量高于1%时检测准确度会受到很大的影响，不适用于本标准。 本标准适用于垂直入射方式和波谱仪，不适用能谱仪。

适用范围：本标准规定了表征以半导体探测器、前置放大器和信号处理系统为基本构成的X射线能谱仪(EDS)特性最重要的量值。本标准仅适用于固态电离作用原理的半导体探测器EDS。本标准只规定了与电子探针(EPMA)或扫描电镜(SEM)联用的此类EDS的最低要求,至于如何实现分析则不在本标准的规定范围之内。

适用范围：本标准规定了用扫描电镜测量纳米级长度的基本原则。适用于测量10nm～500nm的点或线的间距。

适用范围：为使俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱的仪器设定达到深度分辨的优化目的，本标准采用适当的单层和多层膜系参考物质，提供优化溅射深度剖析参数的指南。 特殊多层膜系（如各种掺杂层膜系）的使用不包括在本标准内。