适用范围：本标准规定了焦炉气制甲烷的通用要求、生产安全、甲烷产品贮存运输安全、检修安全及安全管理。本标准适用于新建、改建和扩建的焦炉气制甲烷工程项目。

适用范围：本标准规定了电子工业用三氟甲烷的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。本标准适用于以二氟一氯甲烷、三氯甲烷和氟化氢为原料制备的三氟甲烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。分子式：CHF3。相对分子质量：70.013（按2011年国际相对原子质量)。

适用范围：本标准规定了电子工业用六氟乙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运及安全。本标准适用于工业用六氟乙烷经精制提纯而得的高纯六氟乙烷产品。主要在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或作为电子器元件清洗剂。分子式：C2F6。相对分子质量：138.012 4（按2013年国际相对原子质量)。

适用范围：本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全的内容。本标准适用于硅化镁法、氢化铝钠还原四氟化硅法、氯硅烷歧化工艺法制备的电子工业用硅烷。  它主要用于制作高纯多晶硅、二氧化硅的低温化学气相淀积、氮化硅化学气相淀积、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质或同质硅外延生长原料以及离子注入源和激光介质等，还可用于制作太阳能电池、光导纤维和光电传感器等。分子式：SiH4。相对分子质量：32.117（按2011年国际相对原子质量）。

适用范围：本标准规定了丙烯的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运及安全的内容。本标准适用于以工业丙烯为原料，采用吸附、精馏方法提纯制备的电子工业用丙烯。它主要用于半导体技术领域。分子式：C3H6。相对分子质量：42.081（按2011年国际相对原子质量）。

适用范围：本标准规定了纯甲烷、高纯甲烷的要求、检验规则、试验方法以及包装、标志、贮运及安全警示等。 本标准适用于由低温精馏法自天然气提取的甲烷。纯甲烷和高纯甲烷主要用于标准混合气的制备、催化剂评价、金属与合金的渗碳和碳化物生成、微生物培养、冷冻剂以及化工原料等。

适用范围：本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。分子式：WF6。分子量：297.830 419 2（按2009年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。分子式：C3F8。相对分子质量：188.017（按2011年国际相对原子质量）。

适用范围：本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH4。 相对分子质量：76.662（按2011年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料，也是生产多晶硅的重要原料。分子式：SiF4。相对分子质量：104.0786128（按2009年国际原子相对质量）。

适用范围：本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式：SF6。相对分子质量：146.0564192（按2007年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子质量：70.90（按2009年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了氯化氢的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全。本标准适用于以工业氯化氢为原料，采用纯化制得的氯化氢产品。该产品主要用于微电子工业中气相抛光、外延和刻蚀工艺，也可用于硬质合金、玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。分子式：HCl。相对分子质量：36.458（按2009年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了纯氖和高纯氖的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮运及安全警示等。 本标准适用于以深冷法提取的纯氖和高纯氖，主要用于霓虹灯及作为电子工业的填充介质,也用于激光技术、高能物理、混合气配制。 分子式：Ne。 相对分子质量：20.1797（按2009年国际相对原子质量）。

适用范围：本标准规定了工业六氟化硫的要求、检验规则、试验方法、包装、标志、贮运及安全警示等。 本标准适用于氟与硫直接反应并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用作电力工业、冶金行业和气象部门等。 分子式：SF6。 相对分子质量：146.050 419 2(按2009年国际相对原子质量)。

适用范围：本标准规定了氧化亚氮的技术要求、试验方法、包装、标志、贮存及运输，给出了安全警示。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮，主要用作制冷剂、助燃剂、防腐剂、麻醉剂、压力推进剂，此外，也用于化工、半导体制造和原子吸收光谱等领域。 分子式：N2O。 相对分子质量：44.012 88（按2007年国际相对原子质量）。

适用范围：本标准规定了气态氦和液态氦的技术要求、检验规则、检验方法、产品的包装、标志、储运及安全警示等。〖JP〗 本标准适用于以深冷法提取的纯氦、高纯氦和超纯氦，主要用于光导纤维、激光、焊接切割、潜水呼吸、低温超导、增压、清洗、保护气等。 分子式：He。 相对分子质量：4.002 602（按2007年国际相对原子质量）。

适用范围：本标准规定了工业用非重复充装焊接钢瓶充装的基本原则和安全技术要求。 本标准适用于在环境温度-40 ℃～60 ℃下使用的，储存介质被GB/T 7778划为A类制冷剂(限低压液化气体)，试验压力pT≤6.2 MPa(表压)、容积V≤25 L(当pT＞3.5 MPa时，V≤5 L)的符合GB 17268标准的工业用非重复充装焊接钢瓶(以下简称钢瓶)。

适用范围：本标准规定了工业氦气的技术要求、试验方法以及产品的包装、标志、贮存与运输。 本标准适用于由深冷法制取及经回收制取的氦气。工业氦气主要用于填充氦飞艇、飞行船、气球以及检漏等。 分子式：He。 相对分子质量：4.002 602（按2007年国际相对原子质量）。

适用范围：本部分规定了纯氢、高纯氢和超纯氢的技术要求、试验方法、包装标志、贮运及安全要求。 本部分适用于经吸附法、扩散法等制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。它主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼和科学研究等领域。 分子式：H2。 相对分子质量：2.015 88（按2007年国际相对原子质量）。