适用范围：本文件规定了三氧化二砷的产品分类、技术要求、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容，描述了相应的试验方法。 本文件适用于湿法、火法工艺生产的三氧化二砷，主要用于木材防腐、农药、玻璃、医药、半导体材料等。

适用范围：范围:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。 本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积（PVD）工艺用的高纯钽靶材; 主要技术内容:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积（PVD）工艺用的高纯钽靶材

适用范围：范围:本文件规定了磁控溅射镍膜的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。 本文件适用于采用磁控溅射工艺在各种基体材料上制备的镍膜; 主要技术内容:本文件规定了磁控溅射镍膜的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。本文件适用于采用磁控溅射工艺在各种基体材料上制备的镍膜

适用范围：适用于化学化工、电镀和电铸用的亚硫酸金钠溶液。

适用范围：适用于电子工业、有机合成氢化反应的催化剂等用二氧化铂。

适用范围：适用于氢气净化用钯合金管材。

适用范围：适用于各种含银原料生产的银粒

适用范围：适用于粉末冶金方法和压力加工方法制备的钼钨合金板。

适用范围：适用于安全防护用的耐切割钨丝。

适用范围：适用于工业及化学试剂用碳酸银。

适用范围：适用于微波电真空领域阴极镀膜用锇靶材。