国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
29 电气工程
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
71 化工技术
77 冶金
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
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被代替
译:GB/T 4339-1999 Testing method for thermal expansion characteristic parameters of metallic materials【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1999-11-01 | 实施时间: 2000-08-01收藏 -
被代替
译:GB/T 5166-1998 Sintered metal materials and hardmetals—Determination of Young's modulus【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.10金属材料机械试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1998-12-15 | 实施时间: 1999-08-01收藏 -
被代替
译:GB/T 17473.3-1998 Test methods of precious metal pastes used for thick film microelectronics—Determination of sheet resistance【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1998-08-19 | 实施时间: 1999-03-01收藏 -
被代替
译:GB/T 17473.2-1998 Test methods of precious metal pastes used for thick film microelectronics—Determination of fineness【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1998-08-19 | 实施时间: 1999-03-01收藏 -
被代替
译:GB/T 1555-1997 Test methods for determining the orientation of a semiconductor single crystal【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1997-12-22 | 实施时间: 1998-08-01收藏 -
被代替
译:GB/T 17170-1997 Test method for deep level EL2 concentration of undoped semi-insulating monocrystal gallium arsenide by measurement infrared absorption method【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1997-12-22 | 实施时间: 1998-08-01收藏 -
被代替
译:GB/T 1558-1997 Test method for substitutional atomic carbon content of silicon by infrared absorption【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1997-12-22 | 实施时间: 1998-08-01收藏 -
废止转行标
译:GB/T 17103-1997 Metal material—Quantitative pole figure preparing method【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1997-11-11 | 实施时间: 1998-05-01收藏 -
被代替
译:GB/T 1553-1997 Standard test methods for minority carrier lifetime in bulk germanium and silicon by measurement of photoconductivity decay【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1997-06-03 | 实施时间: 1997-12-01收藏 -
被代替
译:GB/T 1550-1997 Standard methods for measuring conductivity type of extrinsic semiconducting materials【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1997-06-03 | 实施时间: 1997-12-01收藏 -
被代替
译:GB/T 1425-1996 Determination of melting temperature range for precious metals and their alloys—Testing method of thermal analysis【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.99金属材料的其他试验方法 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1996-11-04 | 实施时间: 1997-04-01收藏 -
现行
译:GB/T 1424-1996 Method of measurement of resistivity of precious metals and their alloys【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.99金属材料的其他试验方法 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1996-11-04 | 实施时间: 1997-04-01收藏 -
被代替
译:GB/T 16596-1996 Specification for establishing a wafer coordinate system【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1996-11-04 | 实施时间: 1997-04-01收藏 -
现行
译:GB/T 1423-1996 Method of measurement of density for precious metals and their alloys【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.99金属材料的其他试验方法 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1996-11-04 | 实施时间: 1997-04-01收藏 -
被代替
译:GB/T 6618-1995 Test method for thickness and total thickness variation of silicon slices【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1995-04-18 | 实施时间: 1995-12-01收藏 -
被代替
译:GB/T 6624-1995 Standard method for measuring the surface quality of polished silicon slices by visual inspection【国际标准分类号(ICS)】 :71.100化工产品 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1995-04-18 | 实施时间: 1995-12-01收藏 -
被代替
译:GB/T 1551-1995 Test method for resistivity of silicon and germanium bars using a two-point probe【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1995-04-18 | 实施时间: 1995-12-01收藏 -
被代替
译:GB/T 6620-1995 Test method for measuring warp on silicon slices by noncontact scanning【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1995-04-18 | 实施时间: 1995-12-01收藏 -
被代替
译:GB/T 1480-1995 Determination of particle size for metallic powders—Dry sieving【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1995-04-18 | 实施时间: 1995-12-01收藏 -
被代替
译:GB/T 6616-1995 Test method for measuring resistivity of semiconductor silicon or sheet resistance of semiconductor films with a noncontact eddy-current gage【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 1995-04-18 | 实施时间: 1995-12-01收藏
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